基本介紹
- 中文名：
- 產地：法國
- 學科領域：
- 啟用日期：
- 所屬類別：
技術指標,主要功能,
電子束蒸發鍍膜儀是一種用於數學領域的分析儀器，於2014年12月1日啟用。技術指標1、 真空度＜ 2x10-7 Torr (可達到3.0×10-8 Torr)。2、 電壓源型號ST6；電壓2-10kV可調，電子束流0-0...
高真空雙電子束蒸發鍍膜儀是一種用於物理學領域的工藝試驗儀器，於2018年12月18日啟用。技術指標 1 極限真空≤5E-8Torr；2 抽速： 暴露大氣抽至1.5E-6Torr，時間不超過30分鐘；3 6英寸膜厚均勻性：優於+/-3%； 4 膜厚探頭...
離子束鍍膜機 ；原子層沉積 ；電子束蒸發鍍膜；濺射鍍膜；反射式光譜膜厚儀；光譜型橢圓偏振儀；散射式掃描近場光學顯微鏡；台階儀；半導體參數分析儀；探針台；探針式表面輪廓儀；掃描電鏡鍍膜儀；離子束減薄制樣；桌面電鏡；原子力顯微鏡...
、電漿刻蝕儀 (德國 diener)、電子束蒸發鍍膜儀、脈衝雷射沉積系統(沈科儀)、顯微探針台(美國Cascade)、半導體性能測試儀(美國吉時利)、簡易探針台和數字納伏源表、多種光源等。研究院以劉宏教授為首席科學家，藉助“國家級人才計畫”...