高真空雙電子束蒸發鍍膜儀

高真空雙電子束蒸發鍍膜儀是一種用於物理學領域的工藝試驗儀器，於2018年12月18日啟用。

基本介紹

• 中文名：高真空雙電子束蒸發鍍膜儀
• 產地：美國
• 學科領域：物理學
• 啟用日期：2018年12月18日
• 所屬類別：工藝試驗儀器 > 電子工藝實驗設備 > 電真空器件工藝實驗設備

技術指標

1 極限真空≤5E-8Torr；2 抽速： 暴露大氣抽至1.5E-6Torr，時間不超過30分鐘；3 6英寸膜厚均勻性：優於+/-3%； 4 膜厚探頭監控精度：鍍膜速率0.01A/S；5 加熱器穩定精度：加熱溫度700℃，控制精度：+/-1度。

主要功能

具備雙電子槍，可以同時沉積兩種材料。