真空鍍膜系統

真空鍍膜系統是一種用於化學領域的工藝試驗儀器，於2017年12月13日啟用。

基本介紹

• 中文名：真空鍍膜系統
• 產地：加拿大
• 學科領域：化學
• 啟用日期：2017年12月13日
• 所屬類別：工藝試驗儀器 > 電子工藝實驗設備 > 電真空器件工藝實驗設備

技術指標

有機蒸鍍腔體配備4個有機蒸發源，2個金屬蒸發源和3個探頭。金屬蒸鍍腔體配備4個金屬蒸發源和2個探頭。兩個鍍膜腔體配備高真空鍍膜系統真空系統，真空度小於1.0E-06 mbar；金屬蒸鍍腔體配備INFICON 310C真空鍍膜控制器；有機蒸鍍腔體配備電腦控制真空鍍膜控制器。左側手套箱集成兩個鍍膜機，箱體內部尺寸不小於：高度900 mm，長度3000 mm，底部深度750 mm，箱體泄漏率：0.05 vol%/h。右側手套箱尺寸不小於：高度900 mm，長度1800 mm，底部深度750 mm，箱體泄漏率：0.05 vol%/h。

主要功能

真空熱蒸發鍍膜機是從事有機/高分子光電器件領域研究必不可少的設備之一，主要用來將金屬或者有機物等材料在高真空環境下蒸發到襯底表面形成均勻薄膜。本實驗室根據研究方向，選擇的真空蒸鍍系統將金屬和有機熱蒸發鍍膜機和手套箱集成到一起，配備了電子束蒸發和熱蒸發兩種蒸發源，同時實現了低熔點和高熔點金屬的蒸鍍功能，手套箱中配備了UVO表面清洗機和真空烘箱等襯底和薄膜處理裝置，可以在無水無氧的氛圍內實現有機電子器件的整個製備過程（包括襯底預處理，鍍膜，薄膜後處理）。