大型真空磁控鍍膜系統是一種用於航空、航天科學技術領域的科學儀器，於2006年10月31日啟用。
基本介紹
- 中文名：大型真空磁控鍍膜系統
- 產地：中國
- 學科領域：航空、航天科學技術
- 啟用日期：2006年10月31日
技術指標,主要功能,
技術指標
真空度≧3×10ˉ3Pa,精度±0.1Pa。
主要功能
製作隱身玻璃納米膜系鍍制試驗。
大型真空磁控鍍膜系統是一種用於航空、航天科學技術領域的科學儀器，於2006年10月31日啟用。
大型真空磁控鍍膜系統是一種用於航空、航天科學技術領域的科學儀器，於2006年10月31日啟用。技術指標真空度≧3×10ˉ3Pa,精度±0.1Pa。1主要功能製作隱身玻璃納米膜系鍍制試驗。1...
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全書共分13章，主要講解真空鍍膜室結構、鍍膜室工件架、真空鍍膜機的加熱與測溫裝置、真空鍍膜機的抽氣系統、真空室電和運動的導入結構、濺射鍍膜設備的充布氣系統、蒸發源、磁控濺射靶、濺射鍍膜的膜厚均勻性等方面的設計與計算。《真空...
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