真空鍍膜沉積系統

真空鍍膜沉積系統是一種用於物理學、化學、材料科學領域的儀器，於2015年08月06日啟用。

基本介紹

• 中文名：真空鍍膜沉積系統
• 產地：中國
• 學科領域：物理學、化學、材料科學
• 啟用日期：2015年08月06日

技術指標

機械泵(DUO)351台，抽速10L/s。真空計（PKR251）1套，量程5*10-9mbar~1000mbar。插板閥(HVA11221-0604R)1套，極限真空1*10-10torr。可程式直流電源（TDK8-180）2台，電流精度：0.1A。樣品架1套，容納1個100mm×100mm樣品台，可容納30個15*15mm基片，擋板2片，遮擋100mm×100mm樣品台，掩模板1套，0.3mm厚度。

主要功能

利用真空蒸發，將有機分子蒸鍍到矽片或其他基底上。