磁控在蒸發複合鍍膜系統

磁控在蒸發複合鍍膜系統

磁控在蒸發複合鍍膜系統是一種用於信息科學與系統科學、物理學、工程與技術科學基礎學科、材料科學領域的工藝試驗儀器,於2018年5月31日啟用。

基本介紹

  • 中文名:磁控在蒸發複合鍍膜系統
  • 產地:美國
  • 學科領域:信息科學與系統科學、物理學、工程與技術科學基礎學科、材料科學
  • 啟用日期:2018年5月31日
  • 所屬類別:工藝試驗儀器 > 電子工藝實驗設備
技術指標,主要功能,

技術指標

1、6英寸襯底薄膜均勻性:=5% 2、工藝腔真空度:=5.0e-7Torr,進樣室真空度:=5.0e-7Torr。

主要功能

具備射頻磁控、電子束蒸發、熱蒸發薄膜生長能力,配備原位膜厚儀,具備射頻反濺射清洗功能,樣品台水冷。

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