高真空鍍膜系統是一種用於生物學領域的工藝試驗儀器，於2017年05月08日啟用。
高真空鍍膜系統是一種用於生物學領域的工藝試驗儀器，於2017年05月08日啟用。技術指標真空度可快速達到0.0001帕以下； 真空艙可容納直徑6cm以上材料； 鍍膜範圍大於50mm； 同時包含碳蒸發和金屬投影兩項功能；。...
高真空蒸發鍍膜系統 高真空蒸發鍍膜系統是一種用於信息科學與系統科學領域的工藝試驗儀器，於2015年10月10日啟用。技術指標 有機小分子與金屬分為兩個蒸發腔體。主要功能 蒸發電子器件功能薄膜。
高真空共濺射鍍膜系統是一種用於物理學領域的工藝試驗儀器，於2011年11月15日啟用。技術指標 系統極限真空：（12 小時內）濺射室極限真空度5×10-7torr；共濺射靶數與尺寸：3個×3英寸；2英寸晶片內膜後均勻度±5%。主要功能 半導體...
超高真空複合鍍膜系統是一種用於物理學、天文學、信息與系統科學相關工程與技術領域的工藝試驗儀器，於2014年9月29日啟用。技術指標 最高真空達到10-8Pa，可以進行蒸發鍍膜和磁控濺射鍍膜以及退火處理等實驗。主要功能 可以進行熱蒸發鍍膜和...
真空鍍膜系統是一種用於化學領域的工藝試驗儀器，於2017年12月13日啟用。技術指標 有機蒸鍍腔體配備4個有機蒸發源，2個金屬蒸發源和3個探頭。金屬蒸鍍腔體配備4個金屬蒸發源和2個探頭。兩個鍍膜腔體配備高真空鍍膜系統真空系統，真空度...
高真空磁控濺射鍍膜系統 高真空磁控濺射鍍膜系統是一種用於材料科學領域的科學儀器，於2015年12月14日啟用。技術指標 子系統一：工裝和卡具。主要功能 鍍制各種功能性薄膜光電薄膜，半導體薄膜，硬質膜等。
超高真空電子束多腔蒸發鍍膜系統是一種用於物理學、材料科學領域的工藝試驗儀器，於2013年11月6日啟用。技術指標 蒸發室和氧化室真空度可以達到1E-9 Torr的級別。生長的鋁膜製備的共面波導超導諧振腔的Q值平均值為50萬。主要功能 電子...
真空鍍膜機主要指一類需要在較高真空度下進行的鍍膜，具體包括很多種類，包括真空電阻加熱蒸發，電子槍加熱蒸發，磁控濺射，MBE分子束外延，PLD雷射濺射沉積，離子束濺射等很多種。主要思路是分成蒸發和濺射兩種。簡介 需要鍍膜的被稱為基片...
多功能真空鍍膜系統是一種用於材料科學領域的工藝試驗儀器，於2011年12月16日啟用。技術指標 技術指標：該系統有兩個真空腔室，採用機械手送樣，換樣時不破壞主真空室真空；配置3個2英寸強磁靶槍和1個熱蒸發源，可實現磁控濺射鍍膜和...
高真空複合鍍膜設備是一種用於物理學領域的物理性能測試儀器，於2010年07月30日啟用。技術指標 系統極限真空 主要功能 具有磁控濺射、離子束濺射、離子束輔助沉積與清洗功能。可用於製備各種金屬膜 、半導體膜、介質膜以及鐵電薄膜、各類...
7.1.1 普通鍍膜設備用典型高真空系統 7.1.2 超高真空系統 7.2 真空鍍膜機抽氣系統的設計 7.2.1 真空鍍膜設備對抽氣系統的要求 7.2.2 鍍膜機抽氣系統的放氣量計算 7.2.3 真空泵的選擇 8 真空室內電和運動的導人導出結構...
高真空磁控濺射鍍膜機是一種用於材料科學、電子與通信技術領域的科學儀器，於2013年3月25日啟用。技術指標 設備共有3腔（反濺腔、濺射腔、氧化腔） 8靶 極限真空可達到5*10-6Pa，能進行2英寸晶圓鍍膜。主要功能 可通過直流濺射和...
高真空電子束蒸發鍍膜是一種用於材料科學領域的分析儀器，於2018年12月14日啟用。技術指標 1.真空腔室：要求採用304不鏽鋼材質，尺寸不小於Φ565×H618mm；配方便拆卸的防污板；真空腔體整體水冷優良；2.真空系統：主泵採用具有不低於1700...
1.蒸發系統 ①真空鍍金屬。是一種將蒸發物質加熱的方法。其中包括常用的電阻加熱法，電子束加熱法，高頻感應加熱法以及雷射光束加熱法等。②分子束蒸發法。在極高真空中分析其鍍膜的增長，並以單位原子層能級控制其鍍金屬膜的形成的方法...
