高真空電子束蒸發鍍膜是一種用於材料科學領域的分析儀器，於2018年12月14日啟用。
基本介紹
- 中文名：高真空電子束蒸發鍍膜
- 產地：中國
- 學科領域：材料科學
- 啟用日期：2018年12月14日
- 所屬類別：分析儀器 > 電子光學儀器
技術指標,主要功能,
技術指標
1.真空腔室：要求採用304不鏽鋼材質，尺寸不小於Φ565×H618mm；配方便拆卸的防污板；真空腔體整體水冷優良；2.真空系統：主泵採用具有不低於1700升/秒抽吸能力的高性能分子泵，前級泵採用無油乾泵； 主泵需採用國產或進口知名品牌，投標回響檔案需註明主泵品牌；3.真空極限：優於2.0×10-7Torr；4.電子束蒸發源：e型電子槍一支，槍功率不小於10Kw，束偏轉角270度；配置一套偏轉掃描電源，一套電子槍燈絲電源；5.膜厚控制系統：採用Inficon薄膜沉積控制器線上監測、控制蒸鍍速率和膜厚，1隻水冷探頭；膜厚儀速率顯示精度± 0.015Ā，厚度顯示精度± 0.015Ā；6.熱蒸發源及蒸發電源：至少1組熱蒸發源，1台2000VA蒸發電源，最大電流200A。
主要功能
在片狀、半球狀、異形基底表面製備金屬/化合物（ITO等氧化物）/導電薄膜/光學薄膜等。
