超高真空電子束蒸發法，超高真空條件下進行電子束蒸發鍍膜的技術。在電子束蒸發時，沉積速率可通過四極質譜儀進行監控，薄膜的厚度採用石英晶振法測定，四極質譜儀還可進行殘餘氣體檢測。配備有高能反射電子衍射儀，可對薄膜的生長過程進行檢測。
基本介紹
- 中文名：超高真空電子束蒸發法
- 定義：超高真空條件下進行電子束蒸發鍍膜的技術
超高真空電子束蒸發法，超高真空條件下進行電子束蒸發鍍膜的技術。在電子束蒸發時，沉積速率可通過四極質譜儀進行監控，薄膜的厚度採用石英晶振法測定，四極質譜儀還可進行殘餘氣體檢測。配備有高能反射電子衍射儀，可對薄膜的生長過程進行檢測。
超高真空電子束蒸發法，超高真空條件下進行電子束蒸發鍍膜的技術。在電子束蒸發時，沉積速率可通過四極質譜儀進行監控，薄膜的厚度採用石英晶振法測定，四極質譜儀還可進行殘餘氣體檢測。配備有高能反射電子衍射儀，可對薄膜的生長過程進...
電子束蒸發法是真空蒸發鍍膜的一種，是在真空條件下利用電子束進行直接加熱蒸發材料，使蒸發材料氣化並向基板輸運，在基底上凝結形成薄膜的方法。在電子束加熱裝置中，被加熱的物質放置於水冷的坩堝中，可避免蒸發材料與坩堝壁發生反應影響...
超高真空電子束蒸發系統是一種用於信息科學與系統科學、物理學、工程與技術科學基礎學科領域的工藝試驗儀器，於2018年11月30日啟用。技術指標 電子束蒸發腔室和氧化腔室極限真空度≤5*10-9 Torr；最大支持尺寸≥4英寸；電子束蒸發腔室...
①電子束蒸發:在5～10千伏/厘米電場下使電子束加速，並通過電子透鏡使電子束聚焦，使坩堝中蒸發材料的溫度升高到蒸發溫度而蒸發。蒸發材料的熔融只限於表面的局部區域，使坩堝保持較低溫度，而且電子束可以通過磁場轉彎，從而把陰極雜質蒸發...
（4）基板的真空離子束清洗，控制真空度為1×10帕斯卡~5×10帕斯卡；（5）基板上薄膜製備：使用電子束蒸發方法在基板上製備HfO₂/SiO₂薄膜；（6）薄膜缺陷的雷射預處理：用脈衝寬度為10納秒，波長為1064納米的YAG雷射對基板上的...
真空電子束是一種用於機械工程、動力與電氣工程、交通運輸工程、航空、航天科學技術領域的工藝試驗儀器，於2015年06月10日啟用。技術指標 功率：0~16KW；加速電壓：10~80KV；電子束流範圍： 0-200MA；燈絲電流:0~30A；聚焦電流：300...
功率大於7kw、最大電壓10kV、高壓範圍5kV-9kV、坩堝容積15cc、坩堝數量4個、頻率解析度±0.03 MHz at 6 MHz、測量間隔0.10 s?、存儲薄膜記憶體大於10種、製冷功率大於5kW、蒸發源漏率小於10-8Pa.L/S。主要功能 超高真空電子束蒸...
1.蒸發系統 ①真空鍍金屬。是一種將蒸發物質加熱的方法。其中包括常用的電阻加熱法，電子束加熱法，高頻感應加熱法以及雷射光束加熱法等。②分子束蒸發法。在極高真空中分析其鍍膜的增長，並以單位原子層能級控制其鍍金屬膜的形成的方法...
蒸發的方法包括電阻加熱，高頻感應加熱，電子束、雷射束、離子束高能轟擊鍍料等。真空蒸鍍是PVD法中使用最早的技術。蒸發源 將鍍料加熱到蒸發溫度並使之氣化，這種加熱裝置稱為蒸發源。最常用的蒸發源是電阻蒸發源和電子束蒸發源，特殊...