高真空蒸發鍍膜系統

高真空蒸發鍍膜系統是一種用於信息科學與系統科學領域的工藝試驗儀器，於2015年10月10日啟用。

基本介紹

• 中文名：高真空蒸發鍍膜系統
• 產地：中國
• 學科領域：信息科學與系統科學
• 啟用日期：2015年10月10日
• 所屬類別：工藝試驗儀器 > 電子工藝實驗設備 > 電子產品通用工藝實驗設備

技術指標

有機小分子與金屬分為兩個蒸發腔體。

主要功能

蒸發電子器件功能薄膜。