多弧離子鍍膜機是一種用於物理學、工程與技術科學基礎學科、材料科學領域的工藝試驗儀器,於2014年12月15日啟用。
基本介紹
- 中文名:多弧離子鍍膜機
- 產地:中國
- 學科領域:物理學、工程與技術科學基礎學科、材料科學
- 啟用日期:2014年12月15日
- 所屬類別:工藝試驗儀器 > 加工工藝實驗設備
多弧離子鍍膜機是一種用於物理學、工程與技術科學基礎學科、材料科學領域的工藝試驗儀器,於2014年12月15日啟用。
多弧離子鍍膜機是一種用於物理學、工程與技術科學基礎學科、材料科學領域的工藝試驗儀器,於2014年12月15日啟用。技術指標真空室尺寸:單室,ø1000*1000mm2,有效鍍膜空間:ø600*600mm2 抽真空時間:<...
多弧離子鍍膜裝置是一種用於材料科學領域的工藝試驗儀器,於2013年12月01日啟用。技術指標 1.大平面多弧離子鍍膜機核心技術矩形平面多弧靶,專利號為03249251.0; 2. 為實現Φ600×800mm工作區間的均勻施鍍,該設備進行了獨特的六靶...
LINE連續磁控鍍膜生產線系列 多弧離子鍍膜機系列 公司特色 線上四極質譜氣體分析儀系列 超高真空排氣台系列 其它非標真空設備系列 公司負責人介紹:企業主要負責人 錢鋒博士:1985年畢業於東南大學,1995年留學德國, 2000年獲德國工學博士。
五項專利。《高能級磁控濺射離子鍍技術》;《電漿型弧源一磁控濺射鍍膜機》;《黃銅件真空離子鍍替代電鍍方法》;《用雙向離子鍍磁控濺射代替電鍍設備的爐體》;《鋼鐵、鋅基合金真空離子鍍鉻工藝代替現行電鍍鉻工藝》。原理過程 離子...
多功能磁控濺射鍍膜是一種用於信息與系統科學相關工程與技術領域的工藝試驗儀器,於2014年05月09日啟用。技術指標 系統極限真空:濺射室:系統經烘烤,可達8×10-6Pa;永磁靶直徑Φ50㎜, 直流電源一台;樣品可自轉,一次可鍍一片;...
擁有各類先進的大中小型全自動鍍膜機多台,電鍍、水鍍車間,噴砂房,全自動噴砂機,全自動蝕刻、壓花、拉絲等生產線。鍍色擁有各類先進的大中小型全自動鍍膜機十幾台,包括目前國內最大型的真空多弧離子鍍膜設備TG20、TG24、TG30、TG40多...
中心充分消化吸收國內外先進技術,研發設計製造真空鍍膜系列專用設備、光學鍍膜系列專用設備、射頻鍍膜系列專用設備、磁控濺射鍍膜系列專用設備、多弧離子鍍膜系列專用設備、多功能真空鍍膜機系列專用設備等產品。
生物離子注入機、多功能離子注入機、全方位離子注入機、全方位離子注入/沉積系統、汽車零部件專用鍍膜機、車燈保護膜鍍膜機、磁控濺射鍍膜機、多弧離子鍍膜機、非平衡磁控濺射鍍膜機、工模具離子鍍膜機、柔性基材卷繞鍍膜機、多功能複合鍍膜...
(17) 多弧離子鍍膜機Bulat-6的技術特性,胡社軍,曾鵬,謝光榮等,金屬熱處理,2000 (11): 41 (18) RF/DC濺射316L/SiO2複合膜力學性能與顯微結構的研究,溫偉祥,胡社軍,曾鵬,謝光榮等,真空,2001(2):16 (19) 射頻/直流磁控...
公司從事真空鍍膜設備,真空電鍍設備設計生產,有著豐富的鍍膜技術及設備的設計製造經驗.是集設備生產與技術服務於一體的高科技企業.本司提供多種型號多弧,磁控,中頻離子真空鍍膜機等產品.本公司生產的系列裝搭生產線、系列高低溫、燃油、...
實驗室占地4000平方米,各類設備總值3105萬元,擁有超薄切片機、高精度電化學綜合測試系統、微區掃描電化學工作站、納米螺旋碳纖維半連續製備實驗裝置、高分辨掃描電子顯微鏡、高分辨原子力顯微鏡、X射線螢光分析儀、多弧離子鍍膜機裝置、超高...
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3.2.2空心陰極離子鍍 3.2.3多弧離子鍍 3.2.4物理氣相沉積的工藝 3.2.5用多弧離子鍍膜機鍍氮化欽 3.2.6物理氣相沉積套用實例 3.3電漿化學氣相沉 積(PCVD)3.3.1設備與工作原理 3.3.2工藝過程 3.3.3TiN塗層的...
中心實驗室教學和科研儀器設備總價值3400多萬元,現有核磁共振波譜儀Bruker-500、X射線粉末衍射儀、單晶衍射儀、同步熱分析儀、掃描電子顯微鏡/X射線能譜儀、傅立葉紅外光譜儀、氣相色譜質譜儀、掃描電子顯微鏡、多弧離子鍍膜機、線上粒度儀...
第三節現代技術與真空鍍膜機194 一、新型真空蒸發鍍膜機194 二、典型的各類行業用途的真空鍍膜機195 三、多弧離子鍍膜機196 四、等離子擴滲鍍膜機197 五、磁控濺射及多層真空鍍膜機198 第四節鍍鋁薄膜的模具與裝置202 一、用於塑膠薄膜...
離子鍍膜是在真空條件下通入Ar氣等,利用輝光放電使氣體和鍍膜材料部分離化,並使離子轟擊靶打出靶上的材料離子,使其沉積在合金基體的表面。離子鍍膜在切削工具超硬材料鍍膜中套用較為成功的技術是多弧離子鍍膜。濺射鍍膜是在真空室中...
1972年Moley&Smith發展完善了空心熱陰極離子鍍,1973年又發展出射頻離子鍍(RFIP)。20世紀80年代又發展出磁控濺射離子鍍(MSIP)和多弧離子鍍(MAIP)。離子鍍膜是物理氣相沉積方法中套用最廣泛的一種鍍膜工藝。特點 離子鍍膜的基本特點是...