多弧離子鍍膜機

多弧離子鍍膜機

多弧離子鍍膜機是一種用於物理學、工程與技術科學基礎學科、材料科學領域的工藝試驗儀器,於2014年12月15日啟用。

基本介紹

  • 中文名:多弧離子鍍膜機
  • 產地:中國
  • 學科領域:物理學、工程與技術科學基礎學科、材料科學
  • 啟用日期:2014年12月15日
  • 所屬類別:工藝試驗儀器 > 加工工藝實驗設備
技術指標,主要功能,

技術指標

真空室尺寸:單室,ø1000*1000mm2,有效鍍膜空間:ø600*600mm2 抽真空時間:<15min(室溫空真空室從大氣壓抽到4.0*10-3Pa) 極限壓力:3.0×10-4Pa 工作真空度:10~1.0×10-1Pa 偏壓電源:輸出功率30kw,最大輸出電壓0~1000V,輸出占空比調節範圍:0~90% 總功率:70KVA,380~400v/220~240v,50~60HZ。

主要功能

用於金屬、陶瓷、玻璃等材質表面鍍制各種硬質金屬膜、金屬化合物膜及裝飾膜。具有抽速快、真空穩定,裝載量大、鍍膜均勻性好的特點。

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