多弧離子鍍膜裝置

多弧離子鍍膜裝置是一種用於材料科學領域的工藝試驗儀器，於2013年12月01日啟用。

基本介紹

• 中文名：多弧離子鍍膜裝置
• 產地：中國
• 學科領域：材料科學
• 啟用日期：2013年12月01日
• 所屬類別：工藝試驗儀器

技術指標

1．大平面多弧離子鍍膜機核心技術矩形平面多弧靶，專利號為03249251.0； 2. 為實現Φ600×800mm工作區間的均勻施鍍，該設備進行了獨特的六靶結構設計，靶口位置在室體周向，分子泵口在真空室體周向，分子泵橫裝。 3. 設備配裝了強大的冷卻系統，採用了真空室雙層水冷，真空室門雙層冷卻水管；真空室頂、底板有水冷功能；靶接口法蘭具有水冷功能； 4. 採用了三層不鏽鋼防污板結構設計，防污能力強，便於拆卸安裝； 5、採用偏壓電源：脈衝偏壓電源，30KVA，電壓，占空比，頻率可調 6、控制系統： （1）系統自動監控和保護功能強，包括缺水欠壓檢測與保護、相序檢測與保護、溫度檢測與保護、真空系統檢測與保護等。 （2）PLC 智慧型控制系統一套，包括：可程式控制器（PLC），軟體。可實現鍍膜過程計算機化。 （3）數字式智慧型流量控制儀控制、真空度數值通訊控制與顯示、鍍膜電源數值顯示與智慧型控制、鍍膜控制流程數值化。 （4）系統配有水路及水流報警系統，用來對分子泵、磁控靶、真空室進行冷卻，在水路上安裝有水流繼電器，一旦缺水或水流不足，將進行報警並切斷相應電源，以防止損壞設備。

主要功能

（1）硬質合金刀具的硬質塗層製備；（2）電子材料耐蝕塗層的塗覆；（3）新型複合防腐硬質塗層材料開發和研究；（4）納米梯度塗層材料的研究；（6）非金屬製品的仿金塗層製備。