多弧離子鍍膜系統是一種用於材料科學、機械工程、核科學技術領域的工藝試驗儀器,於2016年12月27日啟用。
基本介紹
- 中文名:多弧離子鍍膜系統
- 產地:中國
- 學科領域:材料科學、機械工程、核科學技術
- 啟用日期:2016年12月27日
- 所屬類別:工藝試驗儀器 > 加工工藝實驗設備 > 機加工工藝實驗設備
多弧離子鍍膜系統是一種用於材料科學、機械工程、核科學技術領域的工藝試驗儀器,於2016年12月27日啟用。
多弧離子鍍膜系統是一種用於材料科學、機械工程、核科學技術領域的工藝試驗儀器,於2016年12月27日啟用。技術指標真空度優於6E-4Pa;有效鍍膜區尺寸約直徑500mm、高600mm;確保鍍膜厚度相對偏差達到5%,氮化物...
多弧離子鍍系統是一種用於材料科學領域的工藝試驗儀器,於2014年11月05日啟用。技術指標 在真空室的周圍壁上共安裝六隻多弧源,弧靶材直徑Ф100mm,順次排布,靶材尺寸事先發給用戶便於用戶定做靶材,多弧源採用高頻引弧方式。 工件轉盤...
多弧離子鍍膜裝置是一種用於材料科學領域的工藝試驗儀器,於2013年12月01日啟用。技術指標 1.大平面多弧離子鍍膜機核心技術矩形平面多弧靶,專利號為03249251.0; 2. 為實現Φ600×800mm工作區間的均勻施鍍,該設備進行了獨特的六靶...
《多弧離子鍍沉積過程的計算機模擬》是2013年冶金工業出版社出版的圖書,作者是趙時璐。內容簡介 《多弧離子鍍沉積過程的計算機模擬》系統介紹了多弧離子鍍沉積過程的計算機模擬。全書共分13章,主要內容包括:緒論;真空鍍膜技術的介紹;...
LINE連續磁控鍍膜生產線系列 多弧離子鍍膜機系列 公司特色 線上四極質譜氣體分析儀系列 超高真空排氣台系列 其它非標真空設備系列 公司負責人介紹:企業主要負責人 錢鋒博士:1985年畢業於東南大學,1995年留學德國, 2000年獲德國工學博士。
系統極限真空:濺射室:系統經烘烤,可達8×10-6Pa;永磁靶直徑Φ50㎜, 直流電源一台;樣品可自轉,一次可鍍一片;樣品可加熱300℃;採用計算機控制鍍膜系統; 二路質量流量計控制進氣;流量0~100SCCM;系統配有水冷循環系統及水壓...
鍍膜靶材是通過磁控濺射、多弧離子鍍或其他類型的鍍膜系統在適當工藝條件下濺射在基板上形成各種功能薄膜的濺射源。簡單說的話,靶材就是高速荷能粒子轟擊的目標材料,用於高能雷射武器中,不同功率密度、不同輸出波形、不同波長的雷射與不...
全方位離子注入/沉積系統、汽車零部件專用鍍膜機、車燈保護膜鍍膜機、磁控濺射鍍膜機、多弧離子鍍膜機、非平衡磁控濺射鍍膜機、工模具離子鍍膜機、柔性基材卷繞鍍膜機、多功能複合鍍膜系統、直流射頻等離子炬及廢物焚燒系統、射頻電漿球化...
二、真空系統191 三、蒸發系統191 四、薄膜卷繞系統193 五、冷卻系統194 六、控制系統194 第三節現代技術與真空鍍膜機194 一、新型真空蒸發鍍膜機194 二、典型的各類行業用途的真空鍍膜機195 三、多弧離子鍍膜機196 四、等離子擴滲...