多弧離子鍍系統

多弧離子鍍系統是一種用於材料科學領域的工藝試驗儀器，於2014年11月05日啟用。

基本介紹

• 中文名：多弧離子鍍系統
• 產地：中國
• 學科領域：材料科學
• 啟用日期：2014年11月05日
• 所屬類別：工藝試驗儀器 > 加工工藝實驗設備 > 電加工工藝實驗設備

技術指標

在真空室的周圍壁上共安裝六隻多弧源，弧靶材直徑Ф100mm，順次排布，靶材尺寸事先發給用戶便於用戶定做靶材，多弧源採用高頻引弧方式。 工件轉盤： 直徑約Ф450mm，高約600mm， 轉盤上裝有六組工件自轉軸，可隨轉盤公轉並帶動工件自轉，轉速可調 可對樣品加熱，從室溫～300℃可控可調，加熱器採用K裝加熱絲。 工件轉盤尺寸滿足設計要求，公轉、自轉可以無極調速，加熱溫度區間0-300℃；偏壓：0~500V。

主要功能

本設備是在特定的真空環境下，採用電弧電漿蒸發源，產生高能量高密度金屬電漿，在工件負偏壓的作用下，可在金屬、陶瓷等表面鍍制金屬膜，通入反應氣體可鍍制化合物膜，如TIN、TIC等，膜層緻密結合力好。在精密金屬切削刀具表面強化及機械、電子等行業有著廣泛的用途，是批量生產型設備。