雙電子槍傾斜式真空鍍膜系統

雙電子槍傾斜式真空鍍膜系統是一種用於數學領域的分析儀器，於2017年1月1日啟用。

基本介紹

• 中文名：雙電子槍傾斜式真空鍍膜系統
• 產地：中國
• 學科領域：數學
• 啟用日期：2017年1月1日
• 所屬類別：分析儀器 > 電子光學儀器

技術指標

加熱溫度800度，真空度10-5Pa，基片可液氮冷卻，雙電子槍，功率6kW。

主要功能

傾斜式鍍膜真空系統，可以實現對兩種材料的共沉積。