自動真空鍍膜機

自動真空鍍膜機是一種用於物理學、動力與電氣工程領域的科學儀器，於2009年08月01日啟用。

基本介紹

• 中文名：自動真空鍍膜機
• 產地：中國
• 學科領域：物理學、動力與電氣工程
• 啟用日期：2009年08月01日

技術指標

極限真空：3×10-4Pa 恢復真空5×10-3Pa≤15min ￠800mm。

主要功能

光學介質膜；金屬膜等。