真空熱蒸發鍍膜機是一種用於信息科學與系統科學領域的分析儀器,於2013年12月24日啟用。
基本介紹
- 中文名:真空熱蒸發鍍膜機
- 產地:加拿大
- 學科領域:信息科學與系統科學
- 啟用日期:2013年12月24日
- 所屬類別:分析儀器 > 樣品前處理及製備儀器 > 旋轉薄膜蒸發儀
真空熱蒸發鍍膜機是一種用於信息科學與系統科學領域的分析儀器,於2013年12月24日啟用。
真空熱蒸發鍍膜機是一種用於信息科學與系統科學領域的分析儀器,於2013年12月24日啟用。技術指標 直徑400mm,高475mm,D字形結構;鋁合金或不鏽鋼艙體可供選擇;最大可處理直徑200mm的基片;整體尺寸600mmx1000mm。主要功能 支持多個PVD...
熱蒸發鍍膜機是一種用於力學、物理學、材料科學領域的儀器,於2013年06月03日啟用。技術指標 1)Process chamber工藝腔體 16x16方形不鏽鋼腔體,包括膠圈密封,鉸鏈連線,帶有矩形觀察窗的鋁製前門。 2)Pumping system泵抽系統 260 l/s...
單室熱蒸發真空鍍膜機 單室熱蒸發真空鍍膜機是一種用於化學、環境科學技術及資源科學技術領域的科學儀器,於2015年10月20日啟用。技術指標 SKY/DZ-4502。主要功能 單室熱態分析。
真空熱蒸發鍍膜設備 真空熱蒸發鍍膜設備是一種用於材料科學領域的分析儀器,於2014年12月4日啟用。技術指標 真空室極限真空度達5*10-5Pa,漏率為關機12小時小於5Pa。主要功能 真空冶煉。
真空熱蒸發鍍膜機是從事有機/高分子光電器件領域研究必不可少的設備之一,主要用來將金屬或者有機物等材料在高真空環境下蒸發到襯底表面形成均勻薄膜。本實驗室根據研究方向,選擇的真空蒸鍍系統將金屬和有機熱蒸發鍍膜機和手套箱集成到一...
全書共分13章,主要講解真空鍍膜室結構、鍍膜室工件架、真空鍍膜機的加熱與測溫裝置、真空鍍膜機的抽氣系統、真空室電和運動的導入結構、濺射鍍膜設備的充布氣系統、蒸發源、磁控濺射靶、濺射鍍膜的膜厚均勻性等方面的設計與計算。《真空...
電阻加熱真空鍍膜機 電阻加熱真空鍍膜機是一種用於材料科學領域的工藝試驗儀器,於2007年9月12日啟用。技術指標 5×10-6 mbar,最大電流4A。主要功能 真空鍍膜。
電子束熱蒸發鍍膜機是一種用於物理學、材料科學、機械工程領域的計量儀器,於2015年1月27日啟用。技術指標 腔體尺寸:600mm(直徑)×700mm(高);前級乾泵加低溫泵真空系統,30分鐘以內抽進10-4Pa,極限真空小於5x10-5Pa;樣品托盤6寸...
真空蒸鍍,簡稱蒸鍍,是指在真空條件下,採用一定的加熱蒸發方式蒸發鍍膜材料(或稱膜料)並使之氣化,粒子飛至基片表面凝聚成膜的工藝方法。蒸鍍是使用較早、用途較廣泛的氣相沉積技術,具有成膜方法簡單、薄膜純度和緻密性高、膜結構...
真空鍍膜技術主要有真空蒸發鍍、真空濺射鍍、真空離子鍍、真空束流沉積、化學氣相沉積等多種方法。除化學氣相沉積法外,其他幾種方法均具有以下的共同特點:(1)各種鍍膜技術都需要一個特定的真空環境,以保證制膜材料在加熱蒸發或濺射過程...
IAD工藝不但生產比常規鍍膜工藝具有更好物理特性的薄膜,而且可以套用於塑膠製成的基底。圖19.11展示一個操作者正在光學鍍膜機前。抽真空主系統由兩個低溫泵組成。電子束蒸發、IAD沉積、光控、加熱器控制、抽真空控制和自動過程控制的控制...
設計製造了團簇式太陽能薄膜電池中試線;採用熱絲法,設計製造金剛石薄膜製備設備;設計製造高真空電阻熱蒸發鍍膜機,科研/生產型磁控濺射儀等。 產品服務 物理氣相沉積(PVD)系列 化學氣相沉積(CVD)系列 超高真空系列 成套設備 ...
PVD(物理氣相沉積)鍍膜技術主要分為三類:真空蒸發鍍膜、真空濺射鍍膜和真空離子鍍膜。物理氣相沉積的主要方法有:真空蒸鍍、濺射鍍膜、電弧電漿鍍膜、離子鍍膜和分子束外延等。相應的真空鍍膜設備包括真空蒸發鍍膜機、真空濺射鍍膜機和...
真空蒸鍍原理 將被鍍薄膜基材(筒狀)裝在真空蒸鍍機中,用真空泵抽真空,使鍍膜中的真空度達到1.3×10-2~1.3×10-3Pa,加熱坩鍋使高純度的鋁絲在1200℃~1400℃的溫度下溶化並蒸發成氣態鋁。氣態鋁微粒在移動的薄膜基材表面...