真空鍍膜手印顯現系統

真空鍍膜手印顯現系統是一種用於物理學、安全科學技術、法學領域的分析儀器，於2014年11月24日啟用。

基本介紹

• 中文名：真空鍍膜手印顯現系統
• 產地：中國台灣
• 學科領域：物理學、安全科學技術、法學
• 啟用日期：2014年11月24日
• 所屬類別：分析儀器 > 電子光學儀器 > 透射電鏡

技術指標

1. 真空度達到10-6帕，抽真空時間不高於30分鐘。 2. 不僅適用於乾燥客體表面手印顯現，對適用於潮濕客體表面手印顯現。

主要功能

利用該設備，採用真空鍍膜的方式，對遺留手印的客體表面鍍膜，從而將手印顯現出來。