鍍膜儀是一種用於材料科學領域的工藝試驗儀器,於2016年12月20日啟用。
基本介紹
- 中文名:鍍膜儀
- 產地:德國
- 學科領域:材料科學
- 啟用日期:2016年12月20日
- 所屬類別:工藝試驗儀器 > 電子工藝實驗設備
鍍膜儀是一種用於材料科學領域的工藝試驗儀器,於2016年12月20日啟用。
鍍膜儀是一種用於材料科學領域的工藝試驗儀器,於2016年12月20日啟用。技術指標真空度 ≤7×10-3 mbar 工作距離 30mm~100mm 濺射電流 0-150mA可調 樣品倉 140mm(寬)×145mm(深)...
電子束蒸發鍍膜儀是一種用於數學領域的分析儀器,於2014年12月1日啟用。技術指標 1、 真空度< 2x10-7 Torr (可達到3.0×10-8 Torr)。2、 電壓源型號ST6;電壓2-10kV可調,電子束流0-0.6A。3、 樣品台可以適用於6英寸晶片。4、 電子槍離子電壓:100-1000eV。主要功能 1、 樣品襯底在蒸鍍前可以通過...
高真空鍍膜儀是一種用於物理學、化學、材料科學、生物學領域的分析儀器,於2018年05月11日啟用。技術指標 (1)極限真空度:≤2×10-6mbar;(2)鍍膜厚度:1-100nm;(3)檢測精度0.1nm;(4)鍍膜種類:碳和金屬。主要功能 該鍍膜儀主要用來在非導電材料表面蒸發或者濺射沉積納米導電薄膜,用來提高樣品的...
真空蒸發鍍膜儀是一種用於化學、材料科學領域的工藝試驗儀器,於2016年06月01日啟用。技術指標 系統的極限壓強可達≤2x10-7Torr;三組熱阻蒸發源;可儲存100個工藝,1000層,50種薄膜;最大轉速可達20轉/分鐘;最高加熱溫度不低於350℃。主要功能 真空蒸發鍍膜是一種由物理方法產生薄膜材料的技術。該設備被廣泛套用...
濺射鍍膜儀是一種用於物理學、電子與通信技術領域的分析儀器,於2018年4月28日啟用。技術指標 在30分鐘之內,系統真空度小於3.0e-6Torr;可以一次植被10片8英寸*8英寸方片;300納米Ti膜,成膜均勻性優於5%.。主要功能 在真空狀態下,濺射鍍膜儀產生的惰性氣體離子束經過電場加速和磁場約束後轟擊作用靶材表面,使得...
濺射和碳絲蒸發鍍膜儀是一種用於畜牧、獸醫科學領域的科學儀器,於2018年12月30日啟用。技術指標 工作時氣壓:Ar, 約1×10-2mbar,工作前真空度需達到5×10-5mbar,全無油真空系統:隔膜泵×1+分子泵×1。主要功能 全自動電腦控制,自動完成抽真空,鍍膜,放氣等全過程,一鍵操作;可進行離子濺射鍍金屬膜,...
刻蝕鍍膜儀是一種用於物理學領域的工藝試驗儀器,於2009年12月15日啟用。技術指標 鍍膜速度:碳材料0.5A/s@10keV,鉻材料1.5A/s@10keV。刻蝕速度:矽材料10μm/hr@10keV,鎢材料3um/hr@10keV。主要功能 將高精度的刻蝕和鍍膜在同一真空腔中進行處理,且能精確控制薄膜厚度。同時具有搖擺和旋轉功能保證刻蝕和...
精密離子束刻蝕鍍膜儀 精密離子束刻蝕鍍膜儀是一種用於物理學領域的科學儀器,於2015年11月6日啟用。技術指標 濺射速度0.1nm/s,面積1inch,支持多種金屬和介質靶材。主要功能 納米級別金屬鍍膜。