高真空鍍膜儀

高真空鍍膜儀是一種用於物理學、化學、材料科學、生物學領域的分析儀器，於2018年05月11日啟用。

基本介紹

• 中文名：高真空鍍膜儀
• 產地：奧地利
• 學科領域：物理學、化學、材料科學、生物學
• 啟用日期：2018年05月11日
• 所屬類別：分析儀器 > 電子光學儀器 > 透射電鏡

技術指標

（1）極限真空度：≤2×10-6mbar；（2）鍍膜厚度：1-100nm；（3）檢測精度0.1nm；（4）鍍膜種類：碳和金屬。

主要功能

該鍍膜儀主要用來在非導電材料表面蒸發或者濺射沉積納米導電薄膜，用來提高樣品的表面導電性能，同時由於厚度僅為幾個納米，可以很好保持樣品原始的表面形貌。