真空蒸發鍍膜儀是一種用於化學、材料科學領域的工藝試驗儀器，於2016年06月01日啟用。
真空蒸發鍍膜儀是一種用於化學、材料科學領域的工藝試驗儀器，於2016年06月01日啟用。技術指標系統的極限壓強可達≤2x10-7Torr;三組熱阻蒸發源;可儲存100個工藝，1000層，50種薄膜;最大轉速可達20轉/...
金屬真空熱蒸鍍儀是一種用於材料科學領域的工藝試驗儀器，於2019年7月3日啟用。技術指標 基板裝置： *標準的樣品盤可以容納4個32 mm x 32 mm的蒸鍍基片。每個基礎結構可配套不同模版。 *掩膜盤提供十二面掩膜板結構,可安排12個掩...
真空蒸發鍍膜法（簡稱真空蒸鍍）是在真空條件下，加熱蒸發容器中待蒸發的材料，使其原子或分子從表面氣化逸出，形成蒸汽流，入社到襯底或基底表面，凝結成固態薄膜的方法。基本原理 正空蒸發鍍膜包括以下基本過程：（1）加熱蒸發過程：包括...
高真空鍍膜儀是一種用於物理學、化學、材料科學、生物學領域的分析儀器，於2018年05月11日啟用。技術指標 （1）極限真空度：≤2×10-6mbar；（2）鍍膜厚度：1-100nm；（3）檢測精度0.1nm；（4）鍍膜種類：碳和金屬。主要功能 ...
電子束蒸發源：8kW，2MHz 晶圓尺寸：最大6英寸 真空度：10E-7Torr 蒸發物料：Ti、Au等 典型沉積速率：0.1-10A/s 樣品台最大傾斜角：±45° 樣品台工作距離：40-60cm。主要功能 高真空電子束蒸發鍍膜儀利用經過磁場偏轉的高能量...
真空蒸發是在真空下進行的蒸發操作。在真空蒸發流程中，末效的二次蒸汽通常在混合式冷凝器中冷凝。真空蒸發的特點是，在低壓下溶液的沸點降低且用較少的蒸汽蒸發大量的水分。該技術套用於真空蒸發鍍膜等。簡介 目的 生產硫酸銅產出的母液...
濺射和碳絲蒸發鍍膜儀是一種用於畜牧、獸醫科學領域的科學儀器，於2018年12月30日啟用。技術指標 工作時氣壓：Ar, 約1×10－2mbar，工作前真空度需達到5×10－5mbar，全無油真空系統：隔膜泵×1+分子泵×1。主要功能 全自動電腦...
渦輪泵鍍膜儀是一種用於地球科學、材料科學、考古學領域的分析儀器，於2010年12月29日啟用。技術指標 真空度：1*10-4mbar；噴碳厚度15-25nm。主要功能 K950X高真空蒸鍍儀在使用碳棒蒸鍍時可給出連續的碳膜，並且使用渦輪分子泵時...
