金屬真空熱蒸鍍儀

金屬真空熱蒸鍍儀是一種用於材料科學領域的工藝試驗儀器，於2019年7月3日啟用。

基本介紹

• 中文名：金屬真空熱蒸鍍儀
• 產地：中國
• 學科領域：材料科學
• 啟用日期：2019年7月3日
• 所屬類別：工藝試驗儀器

技術指標

基板裝置： *標準的樣品盤可以容納4個32 mm x 32 mm的蒸鍍基片。每個基礎結構可配套不同模版。 *掩膜盤提供十二面掩膜板結構,可安排12個掩模板對任意基片進行鍍膜，每個基片將產生4 個相同的器件。每個基片是相互獨立的。 *掩膜板用電腦選取，由工藝步驟行進編程，軟體定位操作。 *掩膜板的變化不影響沉澱過程。掩膜板到基礎結構的公差取決於樣品槽的公差。 *樣品盤氣缸驅動離合以配合更換掩膜板，更換時間快速。固定裝置以標稱30轉數／分的轉 速旋轉時發生沉澱，這樣可以使基礎結構的一致性達到最大。 *旋轉和靜態沉澱由軟體控制，通過伺服電機完成動作，並配有解碼器反饋。 *在基片掩模盤裝置下提供四個擋板（氣缸控制），擋板在手動模式下同時開啟與關閉。 蒸發源： *有16熱阻蒸發源，用於材料蒸發。有機、金屬通用，距基片大約30cm。16個蒸發源的位置 按照R-D-matin-ME系列舟蒸發源設計。 *源與源之間配備隔板，可有效隔絕一定的溫度，並避免源與源之間相互污染。 *4個低電壓大電流的TDK-lambda電源(1*2.4kW GEN10-240)和(3*1.5 kW GEN8-180),通過。

主要功能

在真空條件下蒸鍍有機材料和金屬，用於製備光電功能器件。