精密離子束刻蝕鍍膜儀

精密離子束刻蝕鍍膜儀

精密離子束刻蝕鍍膜儀是一種用於物理學領域的科學儀器,於2015年11月6日啟用。

基本介紹

  • 中文名:精密離子束刻蝕鍍膜儀
  • 產地:美國
  • 學科領域:物理學
  • 啟用日期:2015年11月6日
技術指標,主要功能,

技術指標

濺射速度0.1nm/s,面積1inch,支持多種金屬和介質靶材。

主要功能

納米級別金屬鍍膜。

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