精密離子束刻蝕鍍膜儀是一種用於物理學領域的科學儀器,於2015年11月6日啟用。 基本介紹 中文名:精密離子束刻蝕鍍膜儀產地:美國學科領域:物理學啟用日期:2015年11月6日 技術指標,主要功能, 技術指標濺射速度0.1nm/s,面積1inch,支持多種金屬和介質靶材。主要功能納米級別金屬鍍膜。