蒸發沉積系統

蒸發沉積系統是一種用於材料科學、電子與通信技術領域的工藝試驗儀器，於2010年8月26日啟用。

基本介紹

• 中文名：蒸發沉積系統
• 產地：美國
• 學科領域：材料科學、電子與通信技術
• 啟用日期：2010年8月26日
• 所屬類別：工藝試驗儀器 > 電子工藝實驗設備 > 電路板製造工藝實驗設備

技術指標

腔室本底真空優於5x10-8torr；4 個7cc的蒸發坩堝；2個熱蒸發電極。

主要功能

可以用熱阻和電子束兩種方式，在各種基片上沉積蒸發各種金屬材料薄膜。