高真空蒸發鍍膜機

高真空蒸發鍍膜機是一種用於物理學、化學、材料科學領域的儀器，於2012年03月16日啟用。

基本介紹

• 中文名：高真空蒸發鍍膜機
• 產地：英國
• 學科領域：物理學、化學、材料科學
• 啟用日期：2012年03月16日

技術指標

該設備主要由蒸發沉積室、手套箱、真空排氣系統、真空測量系統、蒸發源、計算機控制系統、電控系統、配氣系統等部分組成。配置：全自動計算機控制蒸發源、膜厚、樣品台和真空度；計算機控制樣品和擋板轉動；4個有機源、2個金屬源；3個石英晶振膜厚監控儀；連線氮氣手套箱（帶勻膠機）；冷卻泵+機械泵；。

主要功能

該設備是有機光電半導體器件和功能納米器件製備的重要設備，主要用於有機薄膜和金屬薄膜/電極的蒸鍍，單層及多層功能薄膜材料的蒸鍍，有機OLED和OPV器件的製備和研究。