高真空鍍膜機是一種用於物理學、化學領域的工藝試驗儀器,於2013年01月09日啟用。
基本介紹
- 中文名:高真空鍍膜機
- 產地:美國
- 學科領域:物理學、化學
- 啟用日期:2013年01月09日
- 所屬類別:工藝試驗儀器 > 電子工藝實驗設備 > 電真空器件工藝實驗設備
高真空鍍膜機是一種用於物理學、化學領域的工藝試驗儀器,於2013年01月09日啟用。
高真空鍍膜機是一種用於物理學、化學領域的工藝試驗儀器,於2013年01月09日啟用。技術指標 腔體內有八個源用來置放不同的材料,並且一次可以對四個樣品進行蒸鍍,同時配置兩個電流源加熱材料,實際蒸鍍時真空可以達到10-7torr。主要...
高真空蒸發鍍膜機是一種用於物理學、化學、材料科學領域的儀器,於2012年03月16日啟用。技術指標 該設備主要由蒸發沉積室、手套箱、真空排氣系統、真空測量系統、蒸發源、計算機控制系統、電控系統、配氣系統等部分組成。配置:全自動...
高真空電子束蒸發鍍膜機是一種用於化學工程領域的工藝試驗儀器,於2014年11月12日啟用。技術指標 1、真空腔室:Φ600×650mm;立式前開門結構。2、真空系統:複合分子泵+機械泵系統,氣動真空閥門,“兩低一高”數顯複合真空計。*3、...
高真空磁控濺射鍍膜機是一種用於材料科學、電子與通信技術領域的科學儀器,於2013年3月25日啟用。技術指標 設備共有3腔(反濺腔、濺射腔、氧化腔) 8靶 極限真空可達到5*10-6Pa,能進行2英寸晶圓鍍膜。主要功能 可通過直流濺射和...
高真空鍍膜系統是一種用於生物學領域的工藝試驗儀器,於2017年05月08日啟用。技術指標 真空度可快速達到0.0001帕以下; 真空艙可容納直徑6cm以上材料; 鍍膜範圍大於50mm; 同時包含碳蒸發和金屬投影兩項功能;。主要功能 碳蒸發與金屬...
5 真空鍍膜機的加熱與測溫裝置 5.1 加熱方式及其裝置 5.2 測溫方式與裝置 5.3 真空室內引線設計 6 真空鍍膜機的擋板機構 7 真空鍍膜機的抽氣系統設計 7.1 鍍膜設備用真空系統 7.1.1 普通鍍膜設備用典型高真空系統 7.1.2 ...
兩個鍍膜腔體配備高真空鍍膜系統真空系統,真空度小於1.0E-06 mbar;金屬蒸鍍腔體配備INFICON 310C真空鍍膜控制器;有機蒸鍍腔體配備電腦控制真空鍍膜控制器。左側手套箱集成兩個鍍膜機,箱體內部尺寸不小於:高度900 mm,長度3000 mm,...
真空鍍膜倉是一種用於物理學、材料科學領域的工藝試驗儀器,於2014年2月20日啟用。技術指標 超高真空倉3X10^-8Pa,真空倉10^-6Pa; 旋轉樣品加熱台最高溫度:800攝氏度 旋轉靶台; 可安裝四塊2英寸靶材。主要功能 提供高真空和可控...
圖19.11展示一個操作者正在光學鍍膜機前。抽真空主系統由兩個低溫泵組成。電子束蒸發、IAD沉積、光控、加熱器控制、抽真空控制和自動過程控制的控制模組都在鍍膜機的前面板上。圖19.12示出裝配在高真空鍍膜機基板上的硬體布局。兩個...
4.極限真空:5*10-5Pa;工作背景真空:7*10-4Pa.5.基片尺寸≤Ф4英寸。6.基片可加熱至500℃.7.控制系統:PC+PLC全自動控制。主要功能 磁濺射鍍膜機是一種普適鍍膜機,用於各種單層膜、多層膜和摻雜膜系。可鍍各種硬質膜、金屬...