高真空蒸發鍍膜設備是一種用於數學領域的分析儀器，於2014年10月1日啟用。
基本介紹
- 中文名：高真空蒸發鍍膜設備
- 產地：中國
- 學科領域：數學
- 啟用日期：2014年10月1日
- 所屬類別：分析儀器
技術指標,主要功能,
技術指標
40.6KVA，380V。
主要功能
高真空蒸發鍍膜設備。
高真空蒸發鍍膜設備
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