金屬與有機材料薄膜沉積系統是一種用於材料科學領域的科學儀器,於2017年3月8日啟用。
基本介紹
- 中文名:金屬與有機材料薄膜沉積系統
- 產地:中國
- 學科領域:材料科學
- 啟用日期:2017年3月8日
金屬與有機材料薄膜沉積系統是一種用於材料科學領域的科學儀器,於2017年3月8日啟用。
一般而言,"CVD" 所指的是非晶形薄膜的成長,這種成長方式歸類於"沉積"(Deposition);而 "VPE" 所指的是具有晶形的薄膜成長方式,這種方式歸類於"磊晶"(Epitaxy)。系統簡介 MOCVD成長薄膜時,主要將載流氣體 (Carrier gas) 通過有機...
金屬有機化學氣相沉積系統 金屬有機化學氣相沉積系統是一種用於材料科學領域的工藝試驗儀器,於2015年3月20日啟用。技術指標 分子泵,超淨間。主要功能 蝕刻。
濺射一般是在充有惰性氣體的真空系統中,通過高壓電場的作用,使得氬氣電離,產生氬離子流,轟擊靶陰極,被濺出的靶材料原子或分子沉澱積累在半導體晶片或玻璃、陶瓷上而形成薄膜。脈衝雷射沉積(Pulsed Laser Deposition,PLD),也被稱為...
就已發表的相關論文和報告可預知,該技術可能套用的主要領域包括:1) 電晶體柵極介電層(high-k)和金屬柵電極(metal gate)2) 微電子機械系統(MEMS)3) 光電子材料和器件 4) 積體電路互連線擴散阻擋層 5) 平板顯示器(有機...
有機薄膜OLED蒸發設備是一種用於物理學、材料科學領域的工藝試驗儀器,於2009年9月4日啟用。技術指標 該設備主要由蒸發沉積室、手套箱、真空排氣系統、真空測量系統、蒸發源、樣品傳遞裝置、計算機控制系統、電控系統、配氣系統等部分組成。
我們開發了電漿-離子束源增強沉積系統,並同過該系統中的磁過濾真空陰極弧和非平衡磁控濺射來進行DLC膜的開發。該項技術廣泛用於電子、裝飾、宇航、機械和信息等領域,用於摩擦、光學功能等用途。我國技術正處於發展和完善階段,有巨大...
洗離子源;(11)配置掩膜系統,(12)配置臭氧氣路。主要功能 1、製備高質量氧化物薄膜、金屬薄膜,以及通過原位傳遞在不暴露大氣的情況下 實現氧化物薄膜和金屬薄膜的有機結合,製備高質量器件。 2、該設備處於國內領 先水平。
同時還發明了與之配套的薄膜材料製備設備和工藝,創立了一種命名為高溫固相類萃取原位氧化還原化學氣相沉積反應法的製備方法。較系統的研究了製備III-V族化合物型半導體薄膜材料的製備工藝和參數條件,如GaAs、InAs、GaP、InP、Ga0.5In0....
定點陣圖案502-1、502-2、504-1、504-2可以通過使用任何沉積工藝將例如金屬材料沉積到母玻璃板上的預定位置來實現。同理,《掩膜板、母板、掩膜板製造設備和顯示基板蒸鍍系統》並不限於圖5所示的示例。作為另一示例,定點陣圖案的形狀不...