掩膜板、母板、掩膜板製造設備和顯示基板蒸鍍系統

《掩膜板、母板、掩膜板製造設備和顯示基板蒸鍍系統》是鄂爾多斯市源盛光電有限責任公司、京東方科技集團股份有限公司於2016年5月5日申請的實用新型發明專利，該專利申請號為2016203988239，公布號為CN205556762U，公布日為2016年9月7日，發明人是嵇鳳麗、梁逸南、白珊珊。

《掩膜板、母板、掩膜板製造設備和顯示基板蒸鍍系統》的實施例涉及掩膜板、母板、掩膜板製造設備和顯示基板蒸鍍系統。掩膜板包括具有多個相互隔開且並行排列的圖形掩膜塊的圖形掩膜層，和具有多個相互隔開且並行排列的覆蓋掩膜塊的覆蓋掩膜層，所述覆蓋掩膜塊覆蓋相鄰的圖形掩膜塊之間的間隙；其中所述圖形掩膜塊包括有效區、非有效區以及位於有效區和非有效區之間的裕量區，所述有效區、非有效區和裕量區均具有多個像素成形開口，並且所述覆蓋掩膜塊還覆蓋相鄰的圖形掩膜塊的非有效區的像素成形開口。母板用於在製造所述掩膜板的過程中進行定位。掩膜板製造設備包括所述母板、基台、張網機和焊接機。顯示基板蒸鍍系統包括蒸鍍機和所述掩膜板。

2021年6月24日，《掩膜板、母板、掩膜板製造設備和顯示基板蒸鍍系統》獲得第二十二屆中國專利銀獎。

（概述圖為《掩膜板、母板、掩膜板製造設備和顯示基板蒸鍍系統》摘要附圖）

基本介紹

• 中文名：掩膜板、母板、掩膜板製造設備和顯示基板蒸鍍系統
• 公布號：CN205556762U
• 申請人：鄂爾多斯市源盛光電有限責任公司、京東方科技集團股份有限公司
• 發明人：嵇鳳麗、梁逸南、白珊珊
• 申請號：2016203988239
• 申請日：2016年5月5日
• 公布日：2016年9月7日
• 地址：內蒙古自治區鄂爾多斯市東勝區裝備製造基地
• 代理機構：北京市中咨律師事務所
• 代理人：葛荊、李崢
• Int. Cl.：C23C14/04(2006.01)I; C23C14/24(2006.01)I; H01L51/56(2006.01)I
• 類別：實用新型發明專利

專利背景

有機發光二極體（OLED，Organic Light Emitting Diode）顯示面板是一種利用OLED作為顯示像素的面板。相比於傳統的液晶顯示面板，OLED為自身發光，而非採用背光源。OLED的發光原理利用了有機半導體材料和發光材料在電場驅動下，通過載流子注入和複合導致發光的現象。具體地，在OLED中，通常用氧化銦錫（ITO）透明電極和金屬電極分別作為該OLED的陽極和陰極。在一定電壓驅動下，電子和空穴分別從陰極和陽極注入到電子和空穴傳輸層。電子和空穴分別經過電子和空穴傳輸層遷移到發光層，並在發光層中相遇，形成激子並使發光分子激發，後者經過輻射弛豫而發出可見光。

zhua曲子白渡白顆

OLED顯示面板主要可分為被動矩陣（PM，Passive Matrix）型和主動矩陣（AM，Active Matrix）型。在PM型面板中，陰極和陽極構成矩陣狀，且以掃描方式點亮OLED像素。在AM型面板中，通常設有完整的陰極層，且在陽極層上覆蓋有薄膜電晶體（TFT）陣列，用於決定哪些像素髮光並進而決定圖像的構成。

對於上述兩種類型的面板，OLED發光器件的製備均是通過將有機材料蒸鍍到基板（例如，在AM型面板中為TFT基板）上形成的。蒸鍍有機材料通常需要使用掩膜板例如精細金屬掩膜板（FMM，Fine Metal Mask），且掩膜板通常焊接在金屬框架上且放在蒸鍍機中使用，其中掩膜板和金屬框架焊接在一起通常被稱為掩膜框架組件（MFA，Mask Frame Assemble）。由於掩膜板對蒸鍍所得的OLED發光層的顯示性能具有顯著的影響，因此存在著不斷提高掩膜板的性能的需求。

發明內容

專利目的

《掩膜板、母板、掩膜板製造設備和顯示基板蒸鍍系統》的實施例提供了一種掩膜板、母板、掩膜板製造設備和顯示基板蒸鍍系統，其能夠改善OLED顯示面板的左右亮度變暗現象並提高良率。

技術方案

根據《掩膜板、母板、掩膜板製造設備和顯示基板蒸鍍系統》的第一方面，提供了一種掩膜板，包括具有多個相互隔開且並行排列的圖形掩膜塊的圖形掩膜層，和具有多個相互隔開且並行排列的覆蓋掩膜塊的覆蓋掩膜層，所述覆蓋掩膜塊覆蓋相鄰的圖形掩膜塊之間的間隙，所述圖形掩膜塊包括有效區、非有效區以及位於有效區和非有效區之間的裕量區，所述有效區、非有效區和裕量區均具有多個像素成形開口，並且所述覆蓋掩膜塊還覆蓋相鄰的圖形掩膜塊的非有效區的像素成形開口。

根據上述配置，由於圖形掩膜塊的非有效區和裕量區具有多個像素成形開口，所以一方面，在圖形掩膜塊的製作過程中，有效區的邊緣與內部被蝕刻的程度變得更均勻，從而使蒸鍍角變得更均勻，而且另一方面，在蒸鍍有機材料的過程中，有效區的邊緣與內部的磁力分布變得更均勻，從而使蒸鍍得到的有機材料層的厚度變得更均勻，進而改善顯示面板的左右亮度變暗現象並提高良率。此外，由於覆蓋掩膜塊還覆蓋相鄰的圖形掩膜塊的非有效區的像素成形開口，所以能夠避免將有機材料蒸鍍到不期望設定有機材料層的區域。

根據《掩膜板、母板、掩膜板製造設備和顯示基板蒸鍍系統》的第二方面，所述有效區的多個像素成形開口以多個相互隔開的像素成形區的形式布置；並且所述掩膜板還包括具有多個相互隔開且並行排列的支撐掩膜塊的支撐掩膜層，所述支撐掩膜塊與所述圖形掩膜塊的長度方向垂直排列、且位置對應於相鄰的像素成形區之間的間隙。

根據上述配置，由於支撐掩膜塊對圖形掩膜塊的支撐，能夠減少圖形掩膜層的下垂。此外，由於支撐掩膜塊的位置對應於相鄰的像素成形區之間的間隙，所以支撐掩膜塊不會對有機材料的蒸鍍造成影響。

根據《掩膜板、母板、掩膜板製造設備和顯示基板蒸鍍系統》的第三方面，所述裕量區具有1列或2列像素成形開口。

根據《掩膜板、母板、掩膜板製造設備和顯示基板蒸鍍系統》的第四方面，所述覆蓋掩膜塊具有至少一個定位開口。

根據上述配置，由於覆蓋掩膜塊具有至少一個定位開口，所以在製造掩膜板的過程中，能夠利用母板上的相應定點陣圖案將覆蓋掩膜塊準確地定位成覆蓋相鄰的圖形掩膜塊的非有效區的像素成形開口。由於設有所述至少一個定位開口的部分可以在掩膜板製造完成後切除，所以該特徵是《掩膜板、母板、掩膜板製造設備和顯示基板蒸鍍系統》的作為成品的掩膜板的可選特徵。

根據《掩膜板、母板、掩膜板製造設備和顯示基板蒸鍍系統》的第五方面，所述非有效區和裕量區的像素成形開口具有與所述有效區的像素成形開口相同的結構、尺寸和排列形式。

根據上述配置，由於非有效區和裕量區的像素成形開口具有與有效區的像素成形開口相同的結構、尺寸和排列形式，所以能夠獲得更均勻的蒸鍍角和磁力分布，從而更好地改善顯示面板的左右亮度變暗現象並提高良率。

根據《掩膜板、母板、掩膜板製造設備和顯示基板蒸鍍系統》的第六方面，所述掩膜板還包括掩膜板框架，所述圖形掩膜層和覆蓋掩膜層設定在所述掩膜板框架上。

根據《掩膜板、母板、掩膜板製造設備和顯示基板蒸鍍系統》的第七方面，所述掩膜板還包括掩膜板框架，所述圖形掩膜層、覆蓋掩膜層和支撐掩膜層設定在所述掩膜板框架上。

根據《掩膜板、母板、掩膜板製造設備和顯示基板蒸鍍系統》的第八方面，提供了一種母板，用於在製造根據上述第一方面所述的掩膜板的過程中進行定位，在所述母板上針對每個圖形掩膜塊設定有至少一個用於定位該圖形掩膜塊的第一定點陣圖案；並且在所述母板上針對每個覆蓋掩膜塊設定有至少一個第二定點陣圖案，用於將該覆蓋掩膜塊定位成覆蓋相鄰的圖形掩膜塊的非有效區的像素成形開口。

根據上述配置，由於在母板上設有第一定點陣圖案和第二定點陣圖案，所以在製造掩膜板的過程中，能夠準確地定點陣圖形掩膜塊和覆蓋掩膜塊。

根據《掩膜板、母板、掩膜板製造設備和顯示基板蒸鍍系統》的第九方面，至少一個第一定點陣圖案或至少一個第二定點陣圖案包括相互隔開的至少兩個點狀圖案，用於與圖形掩膜塊或覆蓋掩膜塊中的相應的至少兩個孔對準。

根據《掩膜板、母板、掩膜板製造設備和顯示基板蒸鍍系統》的第十方面，提供了一種掩膜板製造設備，用於製造根據上述第六方面所述的掩膜板，包括：根據上述第八或第九方面所述的母板，用於對所述覆蓋掩膜層和圖形掩膜層進行定位；基台，用於支撐所述母板和掩膜板框架；張網機，用於對所述覆蓋掩膜層和圖形掩膜層執行拉伸處理；以及焊接機，用於分別將經定位且拉伸的覆蓋掩膜層和圖形掩膜層焊接到所述掩膜板框架上。

根據《掩膜板、母板、掩膜板製造設備和顯示基板蒸鍍系統》的第十一方面，提供了一種顯示基板蒸鍍系統，包括蒸鍍機，還包括根據上述第一至第七方面中任一方面所述的掩膜板。

改善效果

根據《掩膜板、母板、掩膜板製造設備和顯示基板蒸鍍系統》上述配置，由於採用了上述第一至第七方面中任一方面所述的掩膜板，所以蒸鍍得到的有機材料層的厚度變得更均勻，從而能夠改善顯示面板的左右亮度變暗現象並提高良率。

附圖說明

圖1是可以在其中套用《掩膜板、母板、掩膜板製造設備和顯示基板蒸鍍系統》的實施例的掩膜板的結構示意圖；

圖2是相關技術的圖形掩膜塊和覆蓋掩膜塊的結構示意圖；

圖3是根據《掩膜板、母板、掩膜板製造設備和顯示基板蒸鍍系統》的實施例的圖形掩膜塊的結構示意圖；

圖4是根據《掩膜板、母板、掩膜板製造設備和顯示基板蒸鍍系統》的實施例的圖形掩膜塊和覆蓋掩膜塊的結構示意圖；

圖5是根據《掩膜板、母板、掩膜板製造設備和顯示基板蒸鍍系統》的實施例的母板的結構示意圖；

圖6是根據《掩膜板、母板、掩膜板製造設備和顯示基板蒸鍍系統》的實施例的掩膜板製造設備的結構示意圖。

技術領域

《掩膜板、母板、掩膜板製造設備和顯示基板蒸鍍系統》的實施例涉及顯示技術領域，特別涉及一種掩膜板、母板、掩膜板製造設備和顯示基板蒸鍍系統。

權利要求

1.一種掩膜板，包括具有多個相互隔開且並行排列的圖形掩膜塊的圖形掩膜層，和具有多個相互隔開且並行排列的覆蓋掩膜塊的覆蓋掩膜層，所述覆蓋掩膜塊覆蓋相鄰的圖形掩膜塊之間的間隙，其特徵在於，所述圖形掩膜塊包括有效區、非有效區以及位於有效區和非有效區之間的裕量區，所述有效區、非有效區和裕量區均具有多個像素成形開口，並且所述覆蓋掩膜塊還覆蓋相鄰的圖形掩膜塊的非有效區的像素成形開口。

2.根據權利要求1所述的掩膜板，其特徵在於，所述有效區的多個像素成形開口以多個相互隔開的像素成形區的形式布置；以及所述掩膜板還包括具有多個相互隔開且並行排列的支撐掩膜塊的支撐掩膜層，所述支撐掩膜塊與所述圖形掩膜塊的長度方向垂直排列、且位置對應於相鄰的像素成形區之間的間隙。

3.根據權利要求1或2所述的掩膜板，其特徵在於，所述裕量區具有1列或2列像素成形開口。

4.根據權利要求1或2所述的掩膜板，其特徵在於，所述覆蓋掩膜塊和/或圖形掩膜塊各自具有至少一個定位開口。

5.根據權利要求1或2所述的掩膜板，其特徵在於，所述非有效區和裕量區的像素成形開口具有與所述有效區的像素成形開口相同的結構、尺寸和排列形式。

6.根據權利要求1所述的掩膜板，其特徵在於，還包括掩膜板框架，所述圖形掩膜層和覆蓋掩膜層設定在所述掩膜板框架上。

7.根據權利要求2所述的掩膜板，其特徵在於，還包括掩膜板框架，所述圖形掩膜層、覆蓋掩膜層和支撐掩膜層設定在所述掩膜板框架上。

8.一種母板，用於在製造根據權利要求1所述的掩膜板的過程中進行定位，其特徵在於，在所述母板上針對每個圖形掩膜塊設定有至少一個用於定位該圖形掩膜塊的第一定點陣圖案；和/或在所述母板上針對每個覆蓋掩膜塊設定有至少一個第二定點陣圖案，用於將該覆蓋掩膜塊定位成覆蓋相鄰的圖形掩膜塊的非有效區的像素成形開口。

9.根據權利要求8所述的母板，其特徵在於，至少一個第一定點陣圖案或至少一個第二定點陣圖案包括相互隔開的至少兩個點狀圖案，用於與圖形掩膜塊或覆蓋掩膜塊中的相應的至少兩個孔對準。

10.一種掩膜板製造設備，用於製造根據權利要求6所述的掩膜板，其特徵在於，包括：根據權利要求8或9所述的母板，用於對所述覆蓋掩膜層和圖形掩膜層進行定位；基台，用於支撐所述母板和掩膜板框架；張網機，用於對所述覆蓋掩膜層和圖形掩膜層執行拉伸處理；以及焊接機，用於分別將經定位且拉伸的覆蓋掩膜層和圖形掩膜層焊接到所述掩膜板框架上。

11.一種顯示基板蒸鍍系統，包括蒸鍍機，其特徵在於，還包括根據權利要求1至7中任一項所述的掩膜板。

實施方式

截至2016年5月，在OLED顯示面板中，由於利用掩膜板蒸鍍得到的有機材料層的厚度不均勻，會出現面板左右亮度變暗的現象，從而降低面板良率。

《掩膜板、母板、掩膜板製造設備和顯示基板蒸鍍系統》的實施例提供了一種掩膜板、母板、掩膜板製造設備和顯示基板蒸鍍系統，其能夠改善OLED顯示面板的左右亮度變暗現象並提高良率。此外，《掩膜板、母板、掩膜板製造設備和顯示基板蒸鍍系統》的原理可以套用於AM型顯示面板，也可以套用於PM型顯示面板。

I.掩膜板

如圖1所示，掩膜板100包括掩膜板框架102，以及固定（例如，焊接）在掩膜板框架102上的圖形掩膜層104、覆蓋掩膜層106和支撐掩膜層108。掩膜板框架102用於充當支撐框架，並且可以用金屬材料（例如不鏽鋼）製成。圖形掩膜層104用於在基板（例如，在AM型面板中為TFT基板）上蒸鍍有機材料以形成顯示像素，並且可以用金屬材料（例如不鏽鋼）製成。圖形掩膜層104具有多個相互隔開且並行排列的圖形掩膜塊104-1、104-2、…、104-10。儘管圖中示出10個圖形掩膜塊，但是這僅是示例性的示例。圖形掩膜塊的數量可以取決於實際的套用情況而取任何適當的數值。每個圖形掩膜塊可以具有多個像素成形區（參見圖5），且每個像素成形區可以具有多個像素成形開口。

由於在相鄰的圖形掩膜塊之間以及在最外側的圖形掩膜塊與掩膜板框架之間存在著間隙（參見圖5），如果不加處理，將會把有機材料蒸鍍到基板上。為此，覆蓋掩膜層106具有多個相互隔開且並行排列的覆蓋掩膜塊106-0、106-1、…、106-10，用於覆蓋所述間隙。與圖形掩膜塊類似，覆蓋掩膜塊的數量可以取決於實際的套用情況而取任何適當的數值。覆蓋掩膜層106可以用金屬材料（例如不鏽鋼）製成。

此外，由於圖形掩膜層的長度可能較長（例如，在G5.5產線中使用的掩膜板的情況下），所以會出現圖形掩膜層下垂的現象。為此，支撐掩膜層108具有多個相互隔開且並行排列的支撐掩膜塊108-1、108-2、…、108-6，其中支撐掩膜塊與圖形掩膜塊的長度方向垂直排列、且位置對應於相鄰的像素成形區之間的間隙。相鄰的兩個支撐掩膜塊之間的間隙可以對應於一個像素成形區，也可以對應於多於一個像素成形區。這樣，一方面，由於支撐掩膜塊的支撐作用，能夠減少圖形掩膜層的下垂，而且另一方面，由於支撐掩膜塊的位置對應於相鄰的像素成形區之間的間隙，所以支撐掩膜塊不會對有機材料的蒸鍍造成影響。與圖形掩膜塊類似，支撐掩膜塊的數量可以取決於實際的套用情況而取任何適當的數值。支撐掩膜層108可以用金屬材料（例如不鏽鋼）製成。此外，用於形成上述掩膜板框架102、圖形掩膜層104、覆蓋掩膜層106和支撐掩膜層108的金屬材料可以彼此相同或不同。

在圖1所示的示例中，掩膜板包括掩膜板框架，在這種情況下通常被稱為上面提到的MFA。然而，應注意的是，可以在其中套用《掩膜板、母板、掩膜板製造設備和顯示基板蒸鍍系統》的實施例的掩膜板的結構並不限於圖1所示的示例。作為另一示例，掩膜板可以僅包括圖形掩膜層和覆蓋掩膜層，且圖形掩膜層和覆蓋掩膜層可以通過焊接等任何適當的方式固定在一起。作為又一示例，掩膜板可以僅包括圖形掩膜層、覆蓋掩膜層和支撐掩膜層，且圖形掩膜層、覆蓋掩膜層和支撐掩膜層可以通過焊接等任何適當的方式固定在一起。

如圖2所示，相關技術的圖形掩膜塊包括具有多個像素成形開口的有效區，其中所述多個像素成形開口可以以上面提到的多個相互隔開的像素成形區的形式布置。儘管圖中未示出，但是相關技術的圖形掩膜塊也可在有效區的邊緣外側具有虛設的像素成形開口。由於當虛設開口的數量較大時，會將有機材料蒸鍍到基板上的有效區外，所以相關技術的虛設開口的數量非常小（通常為1列或2列像素成形開口）。此外，如圖2所示，相關技術的覆蓋掩膜塊僅覆蓋相鄰的圖形掩膜塊之間的間隙。

截至2016年5月，用相關技術的掩膜板蒸鍍得到的顯示面板會出現左右亮度變暗的現象。造成該現象的原因主要有兩個。一個原因是在窄框線的情況下，圖形掩膜層的虛設開口的數量很少，圖形掩膜層在蒸鍍過程中由於像素成形開口與原材料交接處應力分布不均勻，有效區與原材料區磁力差異過大而導致圖形掩膜層邊緣吸附程度大，所以產生蒸鍍的陰影（shadow）。第二個原因是圖形掩膜層的虛設開口的數量很少，在圖形掩膜層製作過程中由於刻蝕液是從有效區邊緣往裡邊流動的，使邊緣區域的刻蝕程度與內部不同，有效區邊緣被刻蝕掉的材料比有效區中心處多，使蒸鍍角減小，從而也會導致蒸鍍的陰影增大，最終導致蒸鍍在顯示面板左右兩側的有機材料厚度比中間薄，所以面板左右兩側亮度發暗。

如圖3所示，圖形掩膜塊300包括有效區302、非有效區306以及位於有效區302和非有效區306之間的裕量區304。如前所述，有效區302具有多個像素成形開口，其中所述多個像素成形開口可以以上面提到的多個相互隔開的像素成形區的形式布置。裕量區304和非有效區306均具有多個像素成形開口。由於要避免將有機材料蒸鍍到基板的有效區外，所以裕量區304和非有效區306中的像素成形開口是虛設開口。裕量區304中的像素成形開口的數量以不會對蒸鍍得到的基板的有效區的外部造成影響（例如，影響該外部區域的導電特性）為限，並且通常為1列或2列像素成形開口。非有效區306中的像素成形開口會對蒸鍍得到的基板的有效區的外部造成影響，並且其數量可以根據蒸鍍得到的顯示面板的顯示性能的改善情況來確定（例如，其數量可以是數列至數十列像素成形開口）。應注意的是，在圖3所示的示例中，像素成形開口是狹縫（slot）型的全刻蝕（full etch）開口。然而，《掩膜板、母板、掩膜板製造設備和顯示基板蒸鍍系統》並不限於該示例，像素成形開口也可以取決於實際的套用情況而採取任何其他適合的形式。

圖形掩膜塊300可以利用任何用於形成FMM的技術來製作。例如，可以通過依次執行塗光刻膠、使用光刻用掩膜板進行曝光、用顯影液進行顯影、用刻蝕液進行刻蝕、和剝離光刻膠，來製作圖形掩膜塊300。

在圖3所示的示例中，非有效區306和裕量區304的像素成形開口具有與有效區302的像素成形開口相同的結構、尺寸和排列形式。然而，《掩膜板、母板、掩膜板製造設備和顯示基板蒸鍍系統》並不限於圖3所示的示例。作為另一示例，非有效區306和裕量區304的像素成形開口也可以具有與有效區302的像素成形開口不同的結構、尺寸和排列形式，而且非有效區306和裕量區304的像素成形開口的結構、尺寸和排列形式可以彼此相同或不同。

這樣，一方面，在圖形掩膜塊的製作過程中，有效區的邊緣與內部被蝕刻的程度變得更均勻，從而使蒸鍍角變得更均勻，而且另一方面，在蒸鍍有機材料的過程中，有效區的邊緣與內部的磁力分布變得更均勻，從而使蒸鍍得到的有機材料層的厚度變得更均勻，進而改善顯示面板的左右亮度變暗現象並提高良率。

如上所述，非有效區306中的像素成形開口會對蒸鍍得到的基板的有效區的外部造成影響，所以如圖4所示，覆蓋掩膜塊覆蓋相鄰的圖形掩膜塊的非有效區的像素成形開口。由於裕量區中的像素成形開口不會對蒸鍍得到的基板的有效區的外部造成影響，所以覆蓋掩膜塊無需覆蓋裕量區。而且，留出裕量區也可以防止覆蓋掩膜塊（由於例如處理工藝精度的原因）蓋住有效區而影響有機材料的蒸鍍。

如上所述，截至2016年5月，相關技術的覆蓋掩膜塊僅覆蓋相鄰的兩個圖形掩膜塊之間的間隙，所以對覆蓋掩膜塊的位置精度要求不高。然而，圖4所示的覆蓋掩膜塊要遮擋非有效區的像素成形開口，這對覆蓋掩膜塊的位置精度要求較高。因此，如圖4所示，覆蓋掩膜塊還具有相互隔開的兩個定位孔，用於與定位用的母板例如母玻璃板（mother glass）上的相應的定點陣圖案對準，從而將覆蓋掩膜塊準確地定位成覆蓋非有效區的像素成形開口。此外，由於需要在覆蓋掩膜塊與圖形掩膜塊之間進行準確定位，所以圖形掩膜塊也具有相互隔開的兩個定位孔，用於與定位用的母板上的相應的定點陣圖案對準（參見圖5）。

應注意的是，《掩膜板、母板、掩膜板製造設備和顯示基板蒸鍍系統》並不限於圖4所示的示例。作為另一示例，覆蓋掩膜塊和圖形掩膜塊可以各自僅具有一個呈長條狀的定位開口。相應地，定位用的母板可以具有相應的長條狀的定點陣圖案，用於與所述定位開口對準。也就是說，覆蓋掩膜塊和圖形掩膜塊均具有至少一個定位開口即可。此外，由於覆蓋掩膜塊和圖形掩膜塊中設有定位開口的部分可以在掩膜塊製造完成之後切除，所以所述定位開口是作為成品的掩膜板的可選特徵。

如前所述，可以在其中套用《掩膜板、母板、掩膜板製造設備和顯示基板蒸鍍系統》的實施例的掩膜板的結構並不限於圖1所示的示例。作為另一示例，掩膜板可以僅包括圖形掩膜層和覆蓋掩膜層，且圖形掩膜層和覆蓋掩膜層可以通過焊接等任何適當的方式固定在一起。也就是說，《掩膜板、母板、掩膜板製造設備和顯示基板蒸鍍系統》的第一實施例提供了一種掩膜板，其包括具有多個相互隔開且並行排列的圖形掩膜塊的圖形掩膜層，和具有多個相互隔開且並行排列的覆蓋掩膜塊的覆蓋掩膜層，所述覆蓋掩膜塊覆蓋相鄰的圖形掩膜塊之間的間隙，其中所述圖形掩膜塊包括有效區、非有效區以及位於有效區和非有效區之間的裕量區，所述有效區、非有效區和裕量區均具有多個像素成形開口，並且所述覆蓋掩膜塊還覆蓋相鄰的圖形掩膜塊的非有效區的像素成形開口。

如前所述，作為又一示例，掩膜板可以僅包括圖形掩膜層、覆蓋掩膜層和支撐掩膜層，且圖形掩膜層、覆蓋掩膜層和支撐掩膜層可以通過焊接等任何適當的方式固定在一起。也就是說，《掩膜板、母板、掩膜板製造設備和顯示基板蒸鍍系統》的第二實施例提供了一種掩膜板，其包括具有多個相互隔開且並行排列的圖形掩膜塊的圖形掩膜層，和具有多個相互隔開且並行排列的覆蓋掩膜塊的覆蓋掩膜層，所述覆蓋掩膜塊覆蓋相鄰的圖形掩膜塊之間的間隙，其中所述圖形掩膜塊包括有效區、非有效區以及位於有效區和非有效區之間的裕量區，所述有效區、非有效區和裕量區均具有多個像素成形開口，並且所述覆蓋掩膜塊還覆蓋相鄰的圖形掩膜塊的非有效區的像素成形開口；其中所述有效區的多個像素成形開口以多個相互隔開的像素成形區的形式布置；並且所述掩膜板還包括具有多個相互隔開且並行排列的支撐掩膜塊的支撐掩膜層，所述支撐掩膜塊與所述圖形掩膜塊的長度方向垂直排列、且位置對應於相鄰的像素成形區之間的間隙。

此外，如前面針對圖1所述，掩膜板可以包括掩膜板框架。也就是說，《掩膜板、母板、掩膜板製造設備和顯示基板蒸鍍系統》的第三實施例提供了一種掩膜板，其與第一實施例的掩膜板的區別在於，還包括掩膜板框架，所述圖形掩膜層和覆蓋掩膜層設定在所述掩膜板框架上。而且，《掩膜板、母板、掩膜板製造設備和顯示基板蒸鍍系統》的第四實施例提供了一種掩膜板，其與第二實施例的掩膜板的區別在於，還包括掩膜板框架，所述圖形掩膜層、覆蓋掩膜層和支撐掩膜層設定在所述掩膜板框架上。

II.母板

如圖5所示，在母板500上，針對每個圖形掩膜塊設定有相互隔開的兩個圓點502-1、502-2，用於與該圖形掩膜塊中的兩個孔對準從而進行定位。此外，在母板500上，針對每個覆蓋掩膜塊設定有相互隔開的兩個圓點504-1、504-2，用於與該覆蓋掩膜塊中的兩個孔對準，從而將該覆蓋掩膜塊定位成覆蓋圖形掩膜塊的非有效區的像素成形開口。定點陣圖案502-1、502-2、504-1、504-2可以通過使用任何沉積工藝將例如金屬材料沉積到母玻璃板上的預定位置來實現。

同理，《掩膜板、母板、掩膜板製造設備和顯示基板蒸鍍系統》並不限於圖5所示的示例。作為另一示例，定點陣圖案的形狀不限於圓點，也可以是方形、三角形等其他適合的形狀。作為又一示例，母板可以針對每個圖形掩膜塊僅具有一個呈長條狀的定點陣圖案，用於與圖案覆蓋掩膜塊中的相應的長條狀定位開口對準。作為再一示例，母板可以針對每個覆蓋掩膜塊僅具有一個呈長條狀的定點陣圖案，用於與覆蓋掩膜塊中的相應的長條狀定位開口對準。也就是說，母板可以針對每個圖形掩膜塊具有至少一個第一定點陣圖案，且針對每個覆蓋掩膜塊具有至少一個第二定點陣圖案。

由於母板可以針對每個圖形掩膜塊具有至少一個第一定點陣圖案，且針對每個覆蓋掩膜塊具有至少一個第二定點陣圖案，所以《掩膜板、母板、掩膜板製造設備和顯示基板蒸鍍系統》的第五實施例提供了一種母板，其至少可以用於在製造前述第一實施例的掩膜板的過程中進行定位，其中在所述母板上針對每個圖形掩膜塊設定有至少一個用於定位該圖形掩膜塊的第一定點陣圖案；並且在所述母板上針對每個覆蓋掩膜塊設定有至少一個第二定點陣圖案，用於將該覆蓋掩膜塊定位成覆蓋相鄰的圖形掩膜塊的非有效區的像素成形開口。

III.掩膜板製造設備

如圖6所示，掩膜板製造設備600包括基台602、母板604、張網機606和焊接機608。基台602用於支撐母板604和掩膜板框架610。母板604用於對覆蓋掩膜層和圖形掩膜層進行定位，且已經參考圖5進行了詳細描述，在此不再贅述。張網機606用於對覆蓋掩膜層612和圖形掩膜層614執行拉伸處理。焊接機608用於分別將經定位且拉伸的覆蓋掩膜層612和圖形掩膜層614焊接到掩膜板框架610上，並且可以採用例如雷射焊接機來實現。覆蓋掩膜層612和圖形掩膜層614的焊接順序可以是先焊接覆蓋掩膜層612、再焊接圖形掩膜層614，也可以是相反的焊接順序。應注意的是，儘管在圖6中將掩膜板框架610示為放置在母板604之上，但是掩膜板框架610和母板604也可以以其他適合的方式布置（例如，掩膜板框架610可以環繞母板604而與母板604處於同一平面中），只要能夠實現定位即可。

也就是說，《掩膜板、母板、掩膜板製造設備和顯示基板蒸鍍系統》的第六實施例提供了一種掩膜板製造設備，其至少可以用於製造前述第三實施例的掩膜板，並且包括：前述第五實施例的母板，用於對所述覆蓋掩膜層和圖形掩膜層進行定位；基台，用於支撐所述母板和掩膜板框架；張網機，用於對所述覆蓋掩膜層和圖形掩膜層執行拉伸處理；以及焊接機，用於分別將經定位且拉伸的覆蓋掩膜層和圖形掩膜層焊接到所述掩膜板框架上。

可選地，張網機606還可以對上面描述的支撐掩膜層執行拉伸處理，並且焊接機608還可以將經拉伸的支撐掩膜層焊接到掩膜板框架610上。覆蓋掩膜層、支撐掩膜層和圖形掩膜層的焊接順序可以是先焊接覆蓋掩膜層、再焊接支撐掩膜層、再焊接圖形掩膜層，也可以採取任何其他適合的焊接順序。

IV.顯示基板蒸鍍系統

根據《掩膜板、母板、掩膜板製造設備和顯示基板蒸鍍系統》的實施例的顯示基板蒸鍍系統包括：蒸鍍機；以及上面在第I節中描述的根據《掩膜板、母板、掩膜板製造設備和顯示基板蒸鍍系統》的各實施例的掩膜板，用於在基板上形成像素圖形，通常基板上排列有至少一個顯示屏區。除掩膜板外，該顯示基板蒸鍍系統的其他組成設備或部件可以採用與相關的蒸鍍系統中對應工藝或功能相同的設備或部件。

由於採用了在第I節中描述的根據《掩膜板、母板、掩膜板製造設備和顯示基板蒸鍍系統》的實施例的掩膜板，所以利用該顯示基板蒸鍍系統蒸鍍得到的顯示基板的有機材料層的厚度變得更均勻，從而能夠改善顯示面板的左右亮度變暗現象並提高良率。

專利榮譽

2021年6月24日，《掩膜板、母板、掩膜板製造設備和顯示基板蒸鍍系統》獲得第二十二屆中國專利銀獎。