真空有機薄膜蒸鍍設備

真空有機薄膜蒸鍍設備是一種用於物理學、材料科學、能源科學技術領域的工藝試驗儀器，於2010年09月25日啟用。

基本介紹

• 中文名：真空有機薄膜蒸鍍設備
• 產地：美國
• 學科領域：物理學、材料科學、能源科學技術
• 啟用日期：2010年09月25日
• 所屬類別：工藝試驗儀器 > 電子工藝實驗設備

技術指標

該設備主要由蒸發沉積室、手套箱、真空排氣系統、真空測量系統、蒸發源、樣品傳遞裝置、計算機控制系統、電控系統、配氣系統等部分組成。標準配置：(1)全自動計算機控制(蒸發源、膜厚、樣品台、真空);(2)計算機控制樣品和擋板轉動、換樣;(3)12個蒸發源(4個金屬源、8個有機源);(4)可同時控制三個蒸發源的速率和相對比率;(5)4個石英晶振膜厚監控儀;(6)樣品台可同時支持3片基板和3片掩模板:(7)連線氮氣手套箱(帶勻膠機);(8)冷卻泵+機械泵;(9)冷卻水+氮氣充氣。

主要功能

該設備是有機光電半導體器件和功能納米器件製備的重要設備。途主要用於有機薄膜和金屬薄膜/電極的蒸鍍，單層及多層功能薄膜材料的蒸鍍，有機OLED和OPV器件的製備和研究。