有機薄膜沉積系統是一種用於物理學、能源科學技術領域的工藝試驗儀器,於2011年12月25日啟用。
基本介紹
- 中文名:有機薄膜沉積系統
- 產地:美國
- 學科領域:物理學、能源科學技術
- 啟用日期:2011年12月25日
- 所屬類別:工藝試驗儀器 > 電子工藝實驗設備 > 半導體積體電路工藝實驗設備
有機薄膜沉積系統是一種用於物理學、能源科學技術領域的工藝試驗儀器,於2011年12月25日啟用。
有機薄膜沉積系統是一種用於物理學、能源科學技術領域的工藝試驗儀器,於2011年12月25日啟用。技術指標該設備主要由蒸發沉積室、手套箱、真空排氣系統、真空測量系統、蒸發源、樣品傳遞裝置、計算機控制系統、電控系統、配氣系統...
金屬與有機材料薄膜沉積系統是一種用於材料科學領域的科學儀器,於2017年3月8日啟用。技術指標 (1) 抽氣效率:40分鐘後可達≤5.0*10-6 Torr(粗抽管路至腔體在2m內);終極壓力:12小時後可達≤ 8*10-7 Torr; (2) 基載:處理量為10片玻璃(玻璃尺寸40mm*40mm);Mask 20片 (有機10個;金屬10);可...
超高真空薄膜沉積系統 超高真空薄膜沉積系統是一種用於材料科學領域的科學儀器,於2015年7月8日啟用。技術指標 真空度:1*10^-4 pa。主要功能 有機薄膜沉積。
真空沉積系統 真空沉積系統是一種用於物理學領域的分析儀器,於2014年3月1日啟用。技術指標 φ400*600。主要功能 有機薄膜沉積。
因此,用於製備薄膜的化學氣相沉積涉及三個基本過程:反應物的輸運過程,化學反應過程,去除反應副產品過程。廣義上講,化學氣相沉積反應器的設計可分成常壓式和低壓式,熱壁式和冷壁式。常壓式反應器運行的缺點是需要大流量攜載氣體、大尺寸設備,膜被污染的程度高;而低壓化學氣相沉積系統可以除去攜載氣體並在低壓下...
最基本的化學氣相沉積反應包括熱分解反應、化學合成反應以及化學傳輸反應等幾種。特點 1)在中溫或高溫下,通過氣態的初始化合物之間的氣相化學反應而形成固體物質沉積在基體上。2)可以在常壓或者真空條件下(負壓“進行沉積、通常真空沉積膜層質量較好)。3)採用等離子和雷射輔助技術可以顯著地促進化學反應,使沉積可在...
有機薄膜OLED蒸發設備是一種用於物理學、材料科學領域的工藝試驗儀器,於2009年9月4日啟用。技術指標 該設備主要由蒸發沉積室、手套箱、真空排氣系統、真空測量系統、蒸發源、樣品傳遞裝置、計算機控制系統、電控系統、配氣系統等部分組成。標準配置:(1)全自動計算機控制(蒸發源、膜厚、樣品台、真空);(2)計算機控制...
在本項目中,我們利用有機分子束沉積技術和超高真空掃描隧道顯微鏡設備,系統研究了兩種最具代表性的有機半導體分子(並五苯和紅熒烯)薄膜的生長規律,如薄膜台階失穩,形貌演化,和應力釋放的動力學過程,在分子尺度上揭示了有機薄膜台階捆綁和應力釋放的微觀機制;發現了分子手性和薄膜結構之間的關聯效應。(i)觀察...
等離子化學氣相沉積機 等離子化學氣相沉積機是一種用於信息與系統科學相關工程與技術領域的工藝試驗儀器,於2017年11月9日啟用。技術指標 氧化矽成膜速率大於400nm/min,氮化矽成膜速率大於100nm/min。主要功能 成膜。
高真空薄膜蒸鍍系統及手套箱是一種用於物理學、化學、材料科學領域的工藝試驗儀器,於2011年2月25日啟用。技術指標 該設備主要由蒸發沉積室、手套箱、真空排氣系統、真空測量系統、蒸發源、樣品傳遞裝置、計算機控制系統、電控系統、配氣系統等部分組成。標準配置:(1)全自動計算機控制(蒸發源、膜厚、樣品台、真空);...
光電器件噴霧沉積系統 光電器件噴霧沉積系統是一種用於化學、材料科學領域的工藝試驗儀器,於2013年5月24日啟用。技術指標 列印精度2微米,列印面積600平方厘米。主要功能 製備有機半導體發光薄膜材料。
電子束蒸發室:(7)本底真空度 優於1E-9Torr; (8)樣品台可連續旋轉,可加熱,最高加熱溫度不低於800攝氏度; (9)與超高真空系統兼容的電子束蒸發源,不少於6個pocket(10)配置高品質清 洗離子源;(11)配置掩膜系統,(12)配置臭氧氣路。主要功能 1、製備高質量氧化物薄膜、金屬薄膜,以及通過原位傳遞在...
等離子增強化學沉積系統是一種用於物理學、材料科學領域的工藝試驗儀器,於2016年6月30日啟用。技術指標 等粒子源: 射頻淋浴源(RF)、空心陰極高密度電漿源(HCD)、感應耦合電漿源(ICP)或微波電漿源, VHF(甚高頻)電源 襯體直徑:最大12” (300 mm)直徑 帶RF偏壓的襯底托; 加熱溫度:最高800°C...