磁控濺射電子束蒸發系統是一種用於材料科學領域的工藝試驗儀器，於2012年8月31日啟用。
基本介紹
- 中文名：磁控濺射電子束蒸發系統
- 產地：中國
- 學科領域：材料科學
- 啟用日期：2012年8月31日
- 所屬類別：工藝試驗儀器
技術指標,主要功能,
技術指標
極限真空≤5.0E-5Pa（經烘烤除氣後），襯底固定4襯底固定，可放置4片10×10cm2方形樣品，。
主要功能
電子束蒸鍍（Electron Beam Evaporation）是物理氣相沉積的一種，是在真空條件下利用電子束進行直接加熱蒸發材料，使蒸發材料氣化並向基板輸運，在基底上凝結形成薄膜的方法。電子槍是產生電子束的部件，由直線狀螺旋鎢陰極、柵極和陽極組成。加速電壓採用負高壓，陰極和柵極處於相同的負電位，陽極接地電位。陰極由交流供電加熱，使之發射電子，電子受柵極電位的影響，在陽極電壓加速下形成匯聚的電子束。電子束加熱蒸鍍的特點是能獲得極高的能量密度，可以蒸發難熔金屬或化合物。
