氧化物薄膜沉積系統

氧化物薄膜沉積系統是一種用於物理學、電子與通信技術領域的分析儀器，於2016年12月22日啟用。

基本介紹

• 中文名：氧化物薄膜沉積系統
• 產地：荷蘭
• 學科領域：物理學、電子與通信技術
• 啟用日期：2016年12月22日
• 所屬類別：分析儀器 > 樣品前處理及製備儀器 > 旋轉薄膜蒸發儀

技術指標

1、真空度：優於10-8 mbar 2、薄膜監控：30 KV RHEED 3、樣品大小：10x10 mm2 4、襯底加熱/方式：1100 oC/雷射加熱 5、紫外雷射器：248 nm。

主要功能

(1) 高質量氧化物薄膜、鐵電/半導體異質結及新型光電探測器件的先進制備； (2) 系統性研究氧化物薄膜材料的光電磁耦合特性和自旋相關現象； (3) 探索微納尺度下的光電耦合新效應及外場調控規律等。