脈衝電子束沉積系統是一種用於數學領域的分析儀器,於2010年1月1日啟用。
基本介紹
- 中文名:脈衝電子束沉積系統
- 產地:美國
- 學科領域:數學
- 啟用日期:2010年1月1日
- 所屬類別:分析儀器
脈衝電子束沉積系統是一種用於數學領域的分析儀器,於2010年1月1日啟用。
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綜合物性測量系統、多功能原子力顯微鏡、變溫探針台、鐵電測試儀、介電頻譜儀等光電子學測試系統,以及高真空脈衝雷射沉積系統(PLD)、原子層沉積系統(ALD)、高性能納米材料製備系統、電子束蒸發設備、電漿增強化學氣相沉積系統、溶膠...
其中材料製備設備方面有:四靶磁控濺射系統、準分子脈衝雷射外延生長系統、原子層沉積薄膜生長系統、電漿增強化學氣相沉積系統、電子束蒸發薄膜沉積系統和真空氣氛條件下薄膜快速熱處理系統;器件研製方面有:紫外光刻機和反應離子刻蝕系統;...
、電漿刻蝕儀 (德國 diener)、電子束蒸發鍍膜儀、脈衝雷射沉積系統(沈科儀)、顯微探針台(美國Cascade)、半導體性能測試儀(美國吉時利)、簡易探針台和數字納伏源表、多種光源等。研究院以劉宏教授為首席科學家,藉助“國家級人才計畫”...