電漿輔助類金剛石薄膜沉積系統

電漿輔助類金剛石薄膜沉積系統是一種用於物理學領域的分析儀器，於2018年11月19日啟用。

基本介紹

• 中文名：電漿輔助類金剛石薄膜沉積系統
• 產地：德國
• 學科領域：物理學
• 啟用日期：2018年11月19日
• 所屬類別：分析儀器

技術指標

上電極為鋁製電極由13.56MHz射頻源驅動，噴淋頭直徑218mm，溫度控制在200°C到400°C。

主要功能

用於在直徑2吋到8吋的單個晶圓上沉積介質膜（氧化矽、氮氧矽、氮化矽層）。