《雷射濺射和ECR微波放電及離子源結合製備超硬薄膜》是依託復旦大學，由應質峰擔任項目負責人的專項基金項目。
基本介紹
- 中文名：雷射濺射和ECR微波放電及離子源結合製備超硬薄膜
- 依託單位：復旦大學
- 項目類別：專項基金項目
- 項目負責人：應質峰
- 批准號：59920034
- 申請代碼：E0207
- 負責人職稱：副教授
- 研究期限：2000-07-01 至 2002-12-31
- 支持經費：10（萬元）
項目摘要
脈衝雷射濺射（pulsed laser ablation, PLA，或稱為脈衝雷射燒蝕）在材料刻蝕、成分分析等方面都有廣泛而成功的套用，脈衝雷射濺射另一個重要的套用方向是薄膜沉積。自從上世紀八十年代基於脈衝雷射濺射的薄膜製備方法脈衝雷射沉積（pulsed laser depotion, PLD）在高溫超導薄膜的製備上獲得成功以來，人們已嘗試用這一薄膜製備的新技術進行了各種薄膜材料的合成製備，並且PLA和多種其它激勵技術結合起來構成了多種活性源輔助的脈衝雷射沉積方法，拓展了脈衝雷射沉積技術的套用範圍。本項目把PLA分別和電子迴旋共振（ECR）微波放電技術、Kaufman離子源和弧熱原子束結合起來，構成了ECR電漿輔助脈衝雷射沉積、離子束輔助脈衝雷射沉積和原子束輔助脈衝雷射沉積這幾種薄膜製備方法。在機理探討和研究的基礎上，用這兩種方法進行了類金剛石薄膜、氮化碳薄膜、碳化硼薄膜和硼碳氮等多種薄膜，得到了很好的效果。.
