全自動磁控濺射鍍膜設備

全自動磁控濺射鍍膜設備是一種用於材料科學領域的分析儀器，於2014年1月1日啟用。

基本介紹

• 中文名：全自動磁控濺射鍍膜設備
• 產地：中國
• 學科領域：材料科學
• 啟用日期：2014年1月1日
• 所屬類別：分析儀器 > 電子光學儀器

技術指標

極限真空度6.7E-5Pa;樣品最高加熱溫度300度。

主要功能

用於納米或微米級金屬薄膜的製備。