卷繞磁控濺射鍍膜機

卷繞磁控濺射鍍膜機是一種用於物理學、工程與技術科學基礎學科、材料科學領域的科學儀器，於2004年12月1日啟用。

基本介紹

• 中文名：卷繞磁控濺射鍍膜機
• 產地：中國
• 學科領域：物理學、工程與技術科學基礎學科、材料科學
• 啟用日期：2004年12月1日
• 極限真空度：6.67*10-4Pa

技術指標

極限真空度：6.67*10-4Pa，恢復真空時間：10分鐘，由105~10-1 Pa 基材：聚酯薄膜，幅寬400mm，最大圈徑φ400mm，圈繞線速度：0.5~2m/min，單方向卷繞，直流矩形平面磁控濺射靶（二個）；靶基距60mm，靶材，120*600*8（純鈦）。

主要功能

適合在柔性基材上鍍制各種介質膜、導電膜。 主要套用於：柔性線路板、ITO透明導電膜、薄膜電容、汽車/火車/輪船等貼膜、薄膜太陽能電池、柔性太陽能電池FPD平板顯示，柔性顯示器件等。