複合光學鍍膜系統

複合光學鍍膜系統是一種用於材料科學領域的儀器，於2017年3月28日啟用。

基本介紹

• 中文名：複合光學鍍膜系統
• 產地：中國台灣
• 學科領域：材料科學
• 啟用日期：2017年3月28日

技術指標

該系統由有機分子束外延室、無機鍍膜室、磁控濺射室和樣品引進四個室組成。 1. 有機分子束外延室：系統極限真空6.6×10-5Pa；系統漏率，停泵關機12小時後真空度≤5Pa。 2. 無機鍍膜室：系統極限真空可達6.6×10-5Pa；基片Ф75mm，可旋轉，步進電機驅動，轉速5～60轉∕分。 3. 磁控濺射系統：系統極限真空可達6.6×10-5Pa；三個永磁靶和一個強磁靶，靶直徑均為Φ60mm。

主要功能

光學鍍膜。