磁控濺射子系統

磁控濺射子系統是一種用於物理學領域的科學儀器，於2001年11月30日啟用。

基本介紹

• 中文名：磁控濺射子系統
• 產地：美國
• 學科領域：物理學
• 啟用日期：2001年11月30日

技術指標

直流，磁控濺射，4英寸，高真空。

主要功能

鍍制納米薄膜。