射頻等離子增強化學氣相沉積系統

射頻等離子增強化學氣相沉積系統是一種用於物理學領域的分析儀器，於2008年12月1日啟用。

基本介紹

• 中文名：射頻等離子增強化學氣相沉積系統
• 產地：英國
• 學科領域：物理學
• 啟用日期：2008年12月1日
• 所屬類別：分析儀器 > 色譜儀器 > 離子色譜儀

技術指標

反應室口徑600mm，沉積溫度200℃，重複率小於正負2.5%，均勻性小於正負5%。

主要功能

鍍Dlc薄膜。