等離子增強化學氣相沉積系統與反應離子刻蝕系統

等離子增強化學氣相沉積系統與反應離子刻蝕系統是一種用於信息科學與系統科學領域的工藝試驗儀器，於2013年11月20日啟用。

基本介紹

• 中文名：等離子增強化學氣相沉積系統與反應離子刻蝕系統
• 產地：美國
• 學科領域：信息科學與系統科學
• 啟用日期：2013年11月20日
• 所屬類別：工藝試驗儀器

技術指標

根據不同材料 成膜速率10nm/min 折射率良好 均勻度偏差小於5%。

主要功能

製備高介電常數、均勻、緻密的絕緣層薄膜。