濺射等離子增強化學氣相沉積一體系統是一種用於物理學、化學、材料科學、能源科學技術領域的工藝試驗儀器，於2015年11月30日啟用。
基本介紹
- 中文名：濺射等離子增強化學氣相沉積一體系統
- 產地：中國
- 學科領域：物理學、化學、材料科學、能源科學技術
- 啟用日期：2015年11月30日
- 所屬類別：工藝試驗儀器 > 化工、製藥工藝實驗設備 > 純化工藝實驗設備
技術指標,主要功能,
技術指標
真空系統：分子泵機組； 澱積室規格：？400×150mm； 澱積室樣片台尺寸：？290mm（熱均勻區？220mm）； 澱積材料：SiO2、Si3N4、非晶矽、碳化矽、類金剛石等； 澱積速率：200 - 300 ？/min （與澱積材料和工藝有關）； 澱積樣片台加熱溫度：300℃； 澱積不均勻性：≤ ±5%； 濺射室規格：？450×360mm； 濺射靶規格：？80mm； 濺射靶數量：1-4可選； 濺射材料：AI、Au、Cr、Ti、Ni、Cu、W、SiO2、各種介質膜、金屬膜、合金膜等； 濺射樣片台加熱溫度：600℃； 濺射不均勻性：≤±4%。
主要功能
該設備具有刻蝕和濺射功能，主要從事半導體設備、微細加工設備的產品研製、設計，並開展相關工藝的研究及套用。產品套用範圍涉及微電子、光電子、LED、MEMS、感測器、平板顯示、通訊等領域。
