場發射掃描電子顯微鏡系統

場發射掃描電子顯微鏡系統是一種用於材料科學領域的分析儀器，於2013年9月13日啟用。

基本介紹

• 中文名：場發射掃描電子顯微鏡系統
• 產地：日本
• 學科領域：材料科學
• 啟用日期：2013年9月13日
• 所屬類別：分析儀器 > 電子光學儀器 > 掃描電鏡

技術指標

二次電子解析度 1.0nm （加速電壓15kV、WD＝4mm） 1.3nm （加速電壓1kV、WD＝1.5mm） 加速電壓 0.1～30kV 觀測倍率 20～8000,000(底片輸出) 60～2,000,000（顯示器輸出） 樣品台 馬達驅動 5軸 REGULUS樣品台 行程 X 0～50mm 0～110mm Y 0～50mm 0～110mm 0～80mm Z 360° T -5～70° R 1.5～30mm 1.5～40mm 最大裝載尺寸 100mm（最）。

主要功能

廣泛用於生物學、醫學 、金屬材料、高分子材料、化工原料、地質礦物、商品檢驗、產品生產質量控制、寶石鑑定、考古和文物鑑定及公安刑偵物證分析。可以觀察和檢測非均相有機材料、無機材料及在上述微米、納米級樣品的表面特徵。