原子層澱積系統是一種用於電子與通信技術領域的工藝試驗儀器，於2016年12月21日啟用。
基本介紹
- 中文名：原子層澱積系統
- 產地：芬蘭
- 學科領域：電子與通信技術
- 啟用日期：2016年12月21日
- 所屬類別：工藝試驗儀器 > 加工工藝實驗設備 > 電加工工藝實驗設備
技術指標,主要功能,
技術指標
晶片尺寸：2-6”, 50-150 mm (8’’ = 200 mm on request)；工藝溫度 ： Up to 500°C；前驅體 ：2-6 氣體 / 氣體 / 固體；尺寸：27.6 x 41.3 x 36.4’’, 70 x 105 x 92.5 cm (W x H x D)；重量 ： 200 kg；電源：100-240 V, 50/60 Hz, 1- or 3-phase, 3.7 kW Vac；真空泵：30-80 m3/h；載氣： 99.999 % N2 / Ar, min. 2 slm。
主要功能
荷蘭Picosun SUNALETM R-200 Series型 原子沉積系統，功能強大且多元化，不僅具有沉積單一的薄膜、納米疊層與梯度薄膜、摻雜質多組分薄膜、三元薄膜等功能，同時沉積的薄膜能夠得到極度均勻性和高度重複性，具有在複雜基底上、苛刻環境中進行沉積的能力。
