非真空式原子層沉積設備是一種用於化學領域的工藝試驗儀器，於2017年04月05日啟用。
基本介紹
- 中文名：非真空式原子層沉積設備
- 產地：中國台灣
- 學科領域：化學
- 啟用日期：2017年04月05日
- 所屬類別：工藝試驗儀器 > 化工、製藥工藝實驗設備 > 化學反應工藝實驗設備
技術指標,主要功能,
技術指標
1.設備外觀尺寸：1850L×1100W×1800H（mm） 2.生長過程：原子層沉積（Atmospheric ALD Deposition Forming Al2O3 ）3.工作壓強：大氣（760±20 Torr） 4.工作氣體：TMA, H2O,N2 5.系統配置 5.1 TMA inlet: 1 set; 5.2 H2O inlet: 2set; 5.3 Base Heater Stage: 1set; 5.4 TMA Gas Delivery: 1set; 5.5 H2O Gas Delivery: 1set; 6.生產量：30周期（層）/分鐘 7.加熱溫度：設定溫度±20℃（設定溫度最高150℃） 8.氮氣要求：50 SLM @ 70psig 9.晶片尺寸：156mm×156mm×0.2mm 10.載盤容量：1片 11.控制系統：PLC&人機界面 12.工作高度：約1000±20mm(由地板算起)。
主要功能
利用此系統在廠商所製作的晶矽太陽電池半成品上沉積一層氧化鋁薄膜，借著其出色的場效鈍化能力，有效的提高少數載流子壽命，提高太陽電池元件的轉換效率。
