《原子層沉積技術——原理及其套用》是2016年科學出版社出版的圖書,作者是李愛東。
基本介紹
- 中文名:原子層沉積技術——原理及其套用
- 作者:李愛東
- ISBN:9787030483751
- 類別:材料科學
- 出版社:科學出版社
- 出版時間:2016-06
《原子層沉積技術——原理及其套用》是2016年科學出版社出版的圖書,作者是李愛東。
《原子層沉積技術——原理及其套用》是2016年科學出版社出版的圖書,作者是李愛東。內容簡介 本書是面向研究生和從事材料研發等相關行業的科研人員系統介紹原子層沉積技術原理及其套用的一本專業書籍,共13章。包括原子層沉積的發展歷史、...
原子層沉積(ALD)鍍膜技術作為新穎先進的薄膜製備技術,其所製備的薄膜具有均勻、緻密、高保形性等特點,尤其適合在多孔材料表面均勻成膜,因此,它在處理介觀多孔電極材料表面時就具有特別的優勢。本擬將ALD套用於對鋰離子電池正負電極...
本項目聚焦在氣相生長透明電極套用的大尺寸高質量的石墨烯。所提出的合成單層高質量石墨烯的技術路徑是利用原子層沉積的自限制生長概念,通過反應時間的控制在原子層面控制石墨烯的生長過程。為此,搭建一台具有冷腔壁的快速升降溫襯底加熱...
原子層沉積系統是一種用於化學、材料科學領域的工藝試驗儀器,於2014年05月30日啟用。技術指標 反應腔腔壁加熱溫度應不低於300℃;反應腔能夠適應在8英寸及以下尺寸平面基底上沉積薄膜材料且對基底形狀沒有嚴格要求,基底加熱溫度可達500℃...
近年來一種新型薄膜沉積技術即原子層沉積(atomic layer deposition,ALD)受到廣泛關注。以上各種薄膜沉積方法的主要特點與區別列於表一中。表一:常用薄膜沉積技術的主要特徵比較 考察一種薄膜沉積方法是否適合於溶脫剝離法圖形轉移需要注意...
原子氣相沉積是基於脈衝液體注射的化學氣相沉積工藝技術。液體前驅體(包含相變材料組分的前驅體)以微升級的小液滴脈衝被噴射到蒸發器。在惰性氣體(氬、氮等)載氣的作用下,在加熱的蒸發器中得到氣化的前驅體被載入反應腔單元,然後通過...
這種高性能的指數摻雜GaN光電陰極在紫外探測、平板印刷等領域具有廣闊的套用前景和重要價值。結題摘要 GaN光電陰極是滿足微弱紫外探測要求的非常理想的新型紫外光電陰極,在紫外真空探測、高能物理、微電子技術、電子束平面印刷以及電子顯微鏡等...
原子層腐蝕技術(ALE)是一種重要的納米級加工技術。其基本原理是:首先在襯底表面上吸附反應氣體分子,然後採用光、電子束或者離子束去激發氣體分子,使得氣體分子與襯底表面原子發生反應,從而去掉襯底表面的一個原子層;重複進行吸附-激發...
電漿增強原子層沉積系統 電漿增強原子層沉積系統是一種用於信息科學與系統科學、物理學領域的分析儀器,於2017年10月24日啟用。技術指標 Savannah G2 s200。主要功能 測量用。
5.6.2原子層沉積技術原理168 5.6.3原子層沉積技術特點170 5.6.4原子層沉積設備結構172 5.6.5原子層沉積反應前驅體172 5.6.6原子層沉積反應溫度174 5.6.7原子層沉積技術的套用174 5.7脈衝雷射沉積鍍膜175 5.7.1脈衝雷射...
近年來ALD技術迅速發展,已經可以沉積幾百種薄膜[13],被廣泛套用於微電子、光學、防腐、催化、燃料電池和太陽能電池等眾多領域。 本項目在國際上首次將先進的原子層沉積技術套用於矽基MOS結構電致發光器件的研究,以替代傳統的離子注...