等離子加強原子層沉積是一種用於信息科學與系統科學領域的科學儀器,於2017年10月17日啟用。
基本介紹
- 中文名:等離子加強原子層沉積
- 產地:美國
- 學科領域:信息科學與系統科學
- 啟用日期:2017年10月17日
等離子加強原子層沉積是一種用於信息科學與系統科學領域的科學儀器,於2017年10月17日啟用。
等離子加強原子層沉積是一種用於信息科學與系統科學領域的科學儀器,於2017年10月17日啟用。技術指標FIJI F200。1主要功能等離子加強原子層沉積系統。1...
等離子增強原子層沉積系統 等離子增強原子層沉積系統是一種用於物理學領域的儀器,於2015年08月28日啟用。技術指標 膜厚納米級,誤差小於正負1%。主要功能 等離子增強原子層沉積系統。
等離子增強型原子層沉積系統是一種用於信息與系統科學相關工程與技術領域的工藝試驗儀器,於2016年4月22日啟用。技術指標 原位檢測膜厚 原位質譜檢測 紅外光譜分析。主要功能 製備高溫超導用塗層、氧化物介電薄膜及氮化物薄膜材料等。如Al2...
等離子體增強原子層沉積系統 電漿增強原子層沉積系統是一種用於信息科學與系統科學、物理學領域的分析儀器,於2017年10月24日啟用。技術指標 Savannah G2 s200。主要功能 測量用。
雙腔型等離子增強原子層沉積系統是一種用於物理學、化學領域的工藝試驗儀器,於2017年6月29日啟用。技術指標 由熱型和等離子反應腔組成的的兩個獨立的真空反應腔室組成。主要功能 常見氧化物,氮化物以及貴金屬單質薄膜的沉積。
但是到了20世紀90年代中期,人們對這一技術的興趣在不斷加強,這主要是由於微電子和深亞微米晶片技術的發展要求器件和材料的尺寸不斷降低,而器件中的高寬比不斷增加,這樣所使用材料的厚度降低至幾個納米數量級。因此,原子層沉積技術...
化學氣相沉積(chemical vapour deposition,CVD)包括低壓型(LPCVD)、常壓型(APCVD)、等離子體增強型(PECVD)和金屬有機化合物型(MOCVD)。近年來一種新型薄膜沉積技術即原子層沉積(atomic layer deposition,ALD)受到廣泛關注。以上...
本項目擬在原子層沉積系統內進行化學氣相反應合成石墨烯薄膜的實驗,利用其特有源物質的快速切換和清洗系統,在原子層面控制石墨烯的生長過程,抑制多層石墨生長,達到生長連續單層石墨烯薄膜的目的。此外,嘗試套用等離子體輔助沉積等手段進一步...
劉忠偉,男,北京印刷學院印刷與包裝工程學院教師。研究方向 低溫等離子體功能材料沉積(電漿增強化學氣相沉積/原子層沉積),電漿診斷 工作經歷 2008.7至今,北京印刷學院,講師、副教授、教授;1996.7-2001.5,濟南雙利達集團。20...
Nanofics是由Europlasma公司研發的納米級(塗層厚度小於100納米)功能鍍層技術,通過在材料淺表面實現低壓等離子表面聚合或者原子層沉積,從而賦予材料新的功能,同時不會影響材料本身的性能,對三維結構以及複雜形狀的材料表面都可實現均勻性塗覆...