等離子增強型原子層沉積系統是一種用於信息與系統科學相關工程與技術領域的工藝試驗儀器，於2016年4月22日啟用。
等離子增強型原子層沉積系統是一種用於信息與系統科學相關工程與技術領域的工藝試驗儀器，於2016年4月22日啟用。技術指標原位檢測膜厚 原位質譜檢測 紅外光譜分析。1主要功能製備高溫超導用塗層、氧化物介電薄膜及氮化物薄膜材...
等離子增強型原子層澱積系統是一種用於信息科學與系統科學領域的工藝試驗儀器，於2013年12月20日啟用。技術指標 Al2O3: 均勻性8MV/cm， 介電常數＞8.5 HfO: 均勻性3MV/cm，介電常數＞17。主要功能 實行原子層級的薄膜材料澱積，...
等離子增強原子層沉積系統 等離子增強原子層沉積系統是一種用於物理學領域的儀器，於2015年08月28日啟用。技術指標 膜厚納米級，誤差小於正負1%。主要功能 等離子增強原子層沉積系統。
電漿增強型原子層澱積系統 電漿增強型原子層澱積系統是一種用於電子與通信技術領域的電子測量儀器，於2015年12月11日啟用。技術指標 反應腔：24cm/8/加熱溫度：25-400℃。主要功能 等離子態分析。
電漿增強原子層沉積系統 電漿增強原子層沉積系統是一種用於信息科學與系統科學、物理學領域的分析儀器，於2017年10月24日啟用。技術指標 Savannah G2 s200。主要功能 測量用。
等離子加強原子層沉積 等離子加強原子層沉積是一種用於信息科學與系統科學領域的科學儀器，於2017年10月17日啟用。技術指標 FIJI F200。主要功能 等離子加強原子層沉積系統。
雙腔型等離子增強原子層沉積系統是一種用於物理學、化學領域的工藝試驗儀器，於2017年6月29日啟用。技術指標 由熱型和等離子反應腔組成的的兩個獨立的真空反應腔室組成。主要功能 常見氧化物，氮化物以及貴金屬單質薄膜的沉積。
感應耦合等離子增強化學氣相沉積系統是一種用於物理學領域的工藝試驗儀器，於2019年2月25日啟用。技術指標 13.56 MHz 的功率源驅動、可在很低的電漿勢能下、產生高達5×1011 cm-3（氬電漿）的等離子密度； 其下電極可容納直徑...
主要功能 升級原子層沉積系統（ALD）、擴展其等離子體增強ALD功能；使通過系統的反應氣體在電場作用下達到電漿狀態，產生化學活潑的激發態分子、原子、離子和原子團等，促進化學反應，加快薄膜在基底上的生長速度。
本書是面向研究生和從事材料研發等相關行業的科研人員系統介紹原子層沉積技術原理及其套用的一本專業書籍，共13章。包括原子層沉積的發展歷史、原理、前驅體、沉積材料及其理論計算與模擬等基礎內容，又著重論述等離子體增強原子層沉積和分子...
《基於表面等離子體共振效應的放大光纖及套用研究》是依託北京郵電大學，由張茹擔任項目負責人的面上項目。項目摘要 本項目基於表面電漿共振效應（Surface Plasmon Resonance），利用原子層沉積技術（Atomic Layer Deposition，ALD）在光纖...
綜合物性測量系統、多功能原子力顯微鏡、變溫探針台、鐵電測試儀、介電頻譜儀等光電子學測試系統，以及高真空脈衝雷射沉積系統（PLD）、原子層沉積系統（ALD）、高性能納米材料製備系統、電子束蒸發設備、等離子體增強化學氣相沉積系統、溶膠...
刻蝕設備：反應離子刻蝕機（RIE）；感應耦合等離子體刻蝕系統(ICP)；等離子去膠機(PS)；生長設備：原子層沉積系統(ALD)；熱蒸發(TE)；電子束蒸發(EB)；磁控濺射(MS)；化學氣相沉積（CVD）薄膜生長系統；以及電漿增強化學氣相沉積...
