電漿源系統

電漿源系統是一種用於化學、材料科學領域的儀器，於2014年05月12日啟用。

基本介紹

• 中文名：電漿源系統
• 產地：芬蘭
• 學科領域：化學、材料科學
• 啟用日期：2014年05月12日

技術指標

儀器配置包括射頻發生器、電漿反應腔、手動Loadlock單元部件、1套電漿載氣管路、2套電漿反應氣體管路；射頻發生器最大頻率13.56MHz、最大功率300W且可調節；電漿反應腔、手動Loadlock單元部件適用於8英寸及以下尺寸基底。

主要功能

升級原子層沉積系統（ALD）、擴展其電漿增強ALD功能；使通過系統的反應氣體在電場作用下達到電漿狀態，產生化學活潑的激發態分子、原子、離子和原子團等，促進化學反應，加快薄膜在基底上的生長速度。